胶体磨,锥体膜,中式型胶体磨

• 商品介绍
• 规格参数

• 胶体磨,锥体膜,中式型胶体磨,高速胶体磨

   

        中试型胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿（或称为转子）与相配的定齿（或称为定子）作相对的高速旋转，被加工物料通过本身的重量或外部压力（可由泵产生）加压产生 向下的螺旋冲击力，透过中试型胶体磨定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。

       CK 2000是一种高性能的在线胶体磨，能够对坚硬的和颗粒状的原料进行湿磨和粗细磨。CK 2000特别适合于生产胶体溶液或极细的乳液和悬浮液。卓越的分散性能允许翼悾胶体磨CK 2000用于连续过程中，在一次通过中为研磨颗粒提供狭窄分布范围。对于难度大的研磨任务，胶体磨可以通过管连接安装到带有工作容器的再循环回路中。 
  
  中试型胶体磨的细化作用一般来说要弱于均质机，但它对物料的适应能力较强（如高粘度、大颗粒），所以在很多场合下，它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。 
        CK2000/4中试型胶体磨是专门为胶体溶液生产所设计，特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。 CK2000/4中试型胶体磨的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。 CK2000/4中试型胶体磨的定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

       公司另外一项独特的创新，就是锥体磨CKO2000系列，它的设计使其功能在原有的CK2000的基础上又进了一步。由于这项创新，CK2000，从而可以得到精确的研磨参数。 研磨头的表面涂上了一层极其坚硬的硬质材料，从而使其表面具有非常粗糙的纹理。这种硬质材料是由碳化物、陶瓷等高质量物质构成，并且具有不同的粒径。研磨头处形成了一个具有强烈剪切的区域，可以输送高粘度和低粘度物料，但它的分散效果和*后的粒径大小都比胶体磨CM的效果更加理想。

  

   

  胶体磨	流量*	输出	线速度	功率	入口/出口连接
  类型	l/h	rpm	m/s	kW
  CK2000/4	700	9,000	23	2.2	DN25/DN15
  CK2000/5	2,500	6,000	23	7.5	DN40/DN32
  CK 2000/10	7,500	4,200	23	15	DN50/DN50
  CK2000/20	20,000	2,850	23	27	DN80/DN65
  CK 2000/30	40,000	1,420	23	50	DN150/DN125
  CK 2000/50	80,000	1,100	23	110	DN200/DN150
  *流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到允许量的10%。