CEW-2000,6000,9000 交直流电荧光磁粉探伤机

   CEW-6000荧光磁粉探伤机系机电分立式半自动荧光磁粉探伤设备，由电源控制系统、夹持磁化装置、磁悬液喷淋系统，荧光系统等几大部分组成，适用于以湿式磁粉法检测由铁磁性材料制成的各种工件表面及近表面因铸造、锻造、加工、疲劳等各种原因引起的裂纹和各种细微缺陷。

    本设备采用手动、自动两种运行方式，由可编程控制器（MITSUBISHI PLC）集中控制。手动时，可进行每个功能的单步独立操作；自动时，设备自动执行PLC内部程序，工件上料到位后，按启动按钮，可实现工件夹紧——磁化——松开等一系列动作。周向磁化采用直接通电，纵向磁化采用两组方角线圈，具有良好的磁化效果。交流磁化均带断电相位控制，具有较好的剩磁稳定度，既适用于连续法探伤检查，又适用于剩磁法探伤检查。复合磁化在工件上形成旋转磁场，一次性全方位显示磁迹，具有较高的工作效率。

技术参数

周向磁化电流：AC 0-6000A有效值，连续可调，DC 0-3200A（标准试棒，半波两倍于平均值） 平均值，连续可调

纵向磁化磁势：AC 0-18000AT，有效值，连续可调

磁化灵敏度：15/50A1型试片显示清晰

暂载率：≥25%

电极间距：250-1800mm，可调

运行方式：手动、自动运行

磁化方式：周向、纵向、复合磁化

尾架电极箱运动方式：电动

夹紧方式：气动

退磁方式：自动衰减式退磁

纵向退磁磁势：AC：18000-0 AT，有效值，连续可调

周向退磁电流：AC：6000-0 A，有效值，连续可调

退磁效果：≤160A/M（0.2mT）

电源：三相四线380V±10% 50HZ     *大瞬时380A

外形尺寸：3500（长）×1100（宽）×1650（高）mm

重量：约2800Kg

CEW-2000（见下图）

CEW-6000（见下图）

CEW-9000（见下图）