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20nm台式X射线源 脉宽7ns 脉冲能量3.5mJ 转换效率0.45%

价格:¥电议

品牌名称:$brandModel.Title(进口品牌)型号:EUV-B-XRAY 原产地:中国大陆 发布时间:2022/6/16 17:31:05更新时间:2024/12/17 17:25:46

产品摘要:工作波长 20nm;脉宽 7 ns;脉冲能量(Xe) 3.5 mJ (4π sr, 2% BW);转换效率 0.45% ;等离子形状 Ø ~ 300 μm;重复频率 10 Hz

产品完善度: 访问次数:295

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详细内容

 

20nm 台式X射线源 脉宽 7 ns


激光源产生的紫外/软X射线辐射是Tingen在激光实验室开发的,由高脉冲能量YAG激光器(1064nm,800mJ,7ns)聚焦于气体电离产生。不同的目标气体对应不同的能谱分布。


 
工作波长
20nm 
 
输出脉宽
7 ns 
 
重复频率
10 Hz 
 
技术参数

参数

单位

指标

产品编号

 

EUV-B-XRAY

工作波长

nm

20nm

脉宽

ns

7

脉冲能量(Xe

mJ

3.5(4π sr, 2% BW)

转换效率

%

0.45

等离子形状

NA

Ø ~ 300 µm

重复频率

HZ

10

 

测试数据展示:

tc.pngtc_副本.png

 

tc1.png

 
产品特点

● 低残留

● 高EUV能量(3.5 MJ)

● 低耗气量(气体脉冲持续时间:<1 ms)

● 简单目标气体交换

● 桌面系统

产品应用

● 计量:反射测量、吸收

● 光谱学(nexafs)

● 光学/传感器测试

● EUV损坏调查

● 材料相互作用基础研究

● 水窗显微镜(λ=2..4纳米)


激光源产生的紫外/软X射线辐射是Tingen在激光实验室开发的,由高脉冲能量YAG激光器(1064nm,800mJ,7ns)聚焦于气体电离产生。不同的目标气体对应不同的能谱分布。

 

 

 

 
产品特点

● 低残留

● 高EUV能量(3.5 MJ)

● 低耗气量(气体脉冲持续时间:<1 ms)

● 简单目标气体交换

● 桌面系统

产品应用

● 计量:反射测量、吸收

● 光谱学(nexafs)

● 光学/传感器测试

● EUV损坏调查

● 材料相互作用基础研究

● 水窗显微镜(λ=2..4纳米)

 

 

 
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