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上海北京LW300MT硅芯片检查显微镜
点击次数：290发布时间：2010/12/21 15:59:24
更新日期：2019/12/19 11:03:04
所 在 地：中国大陆
产品型号：LW300MT
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详细内容
本仪器广泛的应用于透明，半透明或不透明物质。观察目标：大于3 微米小于20微米，比如金属陶瓷、电子芯片、印刷电路、LCD基板、薄膜、纤维、颗粒状物体、镀层等材料表面的结构、痕迹，都能有很好的成像效果。
二、技术指标
- 镜筒：B双目，倾斜30°（本仪器主机含三目摄像接筒装置）
- 大视野目镜：WF10Xф18mm
- 长工作距离平场物镜：PL5X，PL10X，PLL20X，PLL40X（S），PLL80X（S）
- 转换器：五孔
- 总放大倍数：50X~800X
- 载物台：三层机械移动，尺寸280×270mm，移动范围204mm×204mm
- 调焦：粗微动同轴，升降范围25mm，微动格值0.0007mm，带锁紧和限位装置
- 光源：反射柯勒照明，透反射照明卤素灯6V20W，亮度可调，反射照明带起偏振片
正交偏光装置
