日本Hitachi在电子显微镜领域一向以引领技术潮流著称：1972年发布全球台场透射电子微镜，经过30多年的发展，日立开发、应用了大量的新技术，例如电子枪多重偏压、浸没式(In-lens)、半浸没式(Semi In-lens)物镜、E x B式探测器，电子减速功能等等。推出了一系列性能优异、应用广泛的新型号电镜，受到了用户的一致好评。Hitachi公司除在日本有自己的研法制造中心外，在北美和欧洲也拥有研究开发中心，在全球六十多个国家经营销售、技术支持和提供维修服务。 Hitachi公司将纳米尺度呈献给研究人员和生产厂商。
       在成功推出S-3000系列后，推出新型S-3400N型钨灯丝SEM，它集成了Hitachi多年开发的新技术，例如新型电子枪、大锥角物镜、5分割半导体式背散射探头、物镜光阑自动合轴等等，极大地提高设备的性能和应用扩展能力、使操作和维护更加简易。
      S-4800属于场发射SEM，它集成S-4700和S-5200型的优点，采用新型E x B式探测器和电子束减速功能提高了图像质量，特别是低电压的图像分辨率；新型的透镜系统，提供了高分辨模式、高束流模式、大工作距离模式、磁性样品模式等多种工作模式。
     作为扫描电镜配套的能谱分析仪器，我们供应日本Horiba公司或美国EDAX公司的产品。
 S-4800场发射SEM系统：
1. 分辨率：二次电子（SE）成像：高真空模式：1.0 nm (15KV)、1.4~2.0 nm (1KV)2. 放大倍率：低倍模式20 ～2,000倍；高倍模式100 ～800,800倍
3. 电子枪：冷阴极场发射电子源，束流1pA–2nA；加速电压：0.5～30 kV；3级电磁透射会聚系统
4. 样品室可容纳样品左右直径200 mm，同心样品台，四轴自动，可安装EDS、冷却台附件
5. 移动范围：X = 110 mm /Y = 110 mm /Z =1.5~40.0mm /R=360°；倾斜T：范围不小于-5°～70°(手动)
6. 探测器：二次电子检测器、固体背散射电子检测器；样品室 IR-CCD 相机
7. 图像扫描：不低于5120×3840像素；图像显示1280×960像素