透射电子显微镜(TEM)性能特强的材料分析、可达0.1奈米影像分辨率设备的TEM，将可针对材料之显微结构、晶体缺点、化学成分进行分析；搭配上EDS、HAADF(ZC)、应力分析等功能，更能得到原子尺度结构与成份信息，解决制程上各种难题。iST宜特TEM分析四大优势 一、市场的分析能力：已达5奈米制程节点； 二、快速交期：三班制24小时运作； 三、FEI、JEOL等特高阶设备，供您选择(参见下表)； 四、样品制备能量：八台业界特高阶FEI Helios 660 Dual-beam FIB设备，搭配解除试片损伤层(离子束能量可低至100 eV)的技术，将协助您取得特高质量TEM影像。 TEM应用范围: 显微结构分析(晶格影像) 结晶缺点分析 元素成分分析 薄膜应力分析 电子绕射图分析 杂质及污染源分析 机台型号／规格 关于宜特：iST始创于1994年的台湾，主要以提供集成电路行业可靠性验证、失效分析、材料分析、无线认证等技术服务。2002年进驻上海，全球现已有7座实验室12个服务据点，目前已然成为深具影响力之芯片验证第三方实验室。