四氟化硅传感器
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详细内容
四氟化硅传感器产品介绍
四氟化硅传感器是由四方光电自主研发的高性能气体传感器,产品基于非分光红外技术(NDIR),能够精确测量半导体等应用中产生的SiF4、WF6、CF4、SF6、NF3、CO2等气体,兼容机台内常见预留尺寸、法兰和通讯协议,可用于半导体沉积和清洗工艺的端点检测、腔室清理终端检测,能够减少清洁时间,节约成本,提高产量。
四氟化硅传感器产品特性
使用NDIR技术,多气体监测支持(SiF4、WF6、CF4、SF6、NF3、CO2等气体)
响应时间快,高灵敏度
无耗材
模拟/数字通信
模块化设计,便于集成
四氟化硅传感器技术参数
检测原理 | NDIR |
检测气体 | SiF4、WF6、CF4、SF6、NF3、CO2 |
量程 | 1~264ppm(0~200mTorr) |
重复性 | ±0.5% |
线性 | ±1%F.S. |
检测限 | 1ppm |