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技术文章

透明晶圆缺陷扫描Lumina AT2-EFEM涉及哪些领域的行业应用?

点击次数:23 发布时间:2024/7/26 13:53:28

透明晶圆缺陷扫描Lumina AT2-EFEM涉及哪些领域的行业应用?

http://www.app17.com/c130027/products/d12973983.html
 

透明晶圆缺陷扫描Lumina AT2-EFEM

 

简介:

Lumina AT2-EFEM可以2分钟内完成300毫米晶圆的扫描,对于基底上下表面的颗粒、凸起、凹陷、划痕、内含物等缺陷均可一次性成像。在透明基底,如玻璃,化合物半导体如氮化镓、砷化镓、碳化硅等样品上有独特的优势。也可用于薄膜涂层的成像厚度变化的全表面扫描。

大样品300 x 300 mm。

 

厂商简介

Lumina Instruments,总部位于美国加利福尼亚州圣何塞,公司创始人在透明、半透明和不透明基板全表面缺陷检测创新了更快速准确的方法,因此创建了革命性的仪器品牌lumina.

 

技术创新

 

 

将样片放入系统中2分钟即可完成扫描。

收集的数据将被分析,图像和缺陷图将由LuminaSoft软件生成。

感兴趣的缺陷可在扫描电子显微镜(SEM)、椭偏仪、显微镜等上进行进一步分析。

 

将样品放入系统

 

 

直径为30微米的绿色激光以50毫米的直线运动,反射光和散射光由四个探测器捕获。

 

化:薄膜缺陷、污渍

反射率:划痕、内应力*、玻璃内的条纹*

坡度:划痕、凹坑、凸起、表面形貌

暗场:纳米颗粒、包裹体

 

 

Lumina AT2-EFEM:采取的样品大尺寸为300mm;光斑的大小在60μm也可以选择30或10μm;灵敏度在300nm为理想;扫描时间在40/50/120s。

 

 

AT2应用案例:

内部缺陷:在融化阶段,玻璃内含有污染物

 

内应力:生产过程中玻璃内部形成的张力或折射率内部变化。

 

污渍:由于薄膜残留或清洗过程导致表面变色。

 

 

 

原创作者:北京伊微视科技有限公司

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