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电子束光刻胶，ZEP 520A 电子束光刻胶 EB200-012
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品牌名称：$brandModel.Title(进口品牌)型号： 原产地：中国大陆 发布时间：2024/2/2 9:24:16更新时间：2024/12/23 16:37:28
产品摘要：半导体材料 ZEP520A电子束光刻胶
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详细内容
1.紫外光刻胶（Photoresist）
各种工艺：喷涂用胶，化学放大胶，lift-off胶，图形反转胶，高分辨率胶，LIGA用胶等。
各种波长: 深紫外(Deep UV)、I线(i-line)、G线(g-line)、长波(longwave)曝光用光刻胶。
各种厚度: 光刻胶厚度可从几十纳米到上百微米。
2. 电子束光刻胶（电子束抗蚀剂）（E-beam resist）
电子束正胶：PMMA胶，PMMA/MA聚合物， LIGA用胶等。
电子束负胶：高分辨率电子束负胶，化学放大胶（高灵敏度电子束胶）等。
3. 特殊工艺用光刻胶（Special manufacture/experimental sample）
电子束曝光导电胶，耐酸碱保护胶，全息光刻用胶，聚酰亚胺胶（耐高温保护胶）等特殊工艺用胶。
4. 配套试剂（Process chemicals）
显影液、除胶剂、稀释剂、增附剂（粘附剂）、定影液等。
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