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紫外光刻胶-薄胶AZ5214
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详细内容
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类型 | 光刻胶型号 | 适用光谱 | 厚度范围/um | 分辨率 | 适用工艺 |
紫外光刻胶-薄胶 | S1800系列 | g-Line, | 0.5-3.5 | 0.5um | 正性光刻胶,稳定性好;适用于分辨率要求较高的光刻工艺 |
AZ5214 | g/h/i-Line | 1-2um | 0.5um | 反转胶 | |
BCI-3511 | i-Line | 0.5-2 | 0.5um | 正性i线光刻胶,适用于各类接触式光刻机(mask aligner)、stepper | |
SPR 955 | i-Line | 0.5-3.5 | 0.35um | 正性i线光刻胶,适用于分辨率要求较高的湿法腐蚀和干法刻蚀 | |
AZ 1500 | g/h/i-Line | 0.5-5 | 1um | 正性光刻胶,广泛应用于半导体制造 |
電子束光阻產品表
品名 | 黏度 (mPa・s) | 塗佈膜厚(nm) @2000rpm | 溶劑 | 包裝方式 | |
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電子束光阻 | ZEP520A | 11 | 500 | Anisole | 1QT瓶 / 100ml瓶 |
ZEP520A-7 | 7 | 300 |
電子束光阻專用顯影液
品名 | 特徵 | 包裝方式 | |
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顯影液 | ZED-N50 | 高感度 | 加侖瓶 |