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电子束光刻胶
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品牌名称：$brandModel.Title(进口品牌)型号： 原产地：中国大陆 发布时间：2024/2/17 14:31:38更新时间：2024/11/29 8:51:02
产品摘要：HSQXR-1541-006EB85nm~180nm6nm佳分辨率负胶，抗刻蚀Z5200.05-110-50nm高分辨率电子束正胶,抗刻蚀
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| 类型 | 光刻胶型号 | 适用光谱 | 厚度范围/um | 分辨率 | 适用工艺 |
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| HSQXR-1541-006 | EB | 85nm~180nm | 6nm | 佳分辨率负胶，抗刻蚀 |
| Z520 | 0.05-1 | 10-50nm | 高分辨率电子束正胶,抗刻蚀 | ||
| PMMA | 电子束正胶 | ||||
| EBL 6000系列 | 0.1-0.5 | 50nm | 负性电子束光刻胶 | ||
| ma-N2400系列 | 0.1-1.5 | 30nm | 负性电子束光刻胶 | ||
| 纳米压印胶 | mr-NIL 6000E | 热固化和UV固化 | 0.1-1 | 50nm | 可用于纳米图形的制造、刻蚀、多层系统等 |
| mr-I 9000M | 热固化 | 0.1-1 | 50nm | ||
| mr-UVCur21 | UV固化 | 0.1-5 | 50nm | ||
| 光固化胶 | Ormo系列 | g/h/i-Line | 0.1-300 | 50nm | 适用于制造光栅、微型镜片、光耦合器和连接器等 |
热门标签：ma-N2400系列 PMMA电子束光刻胶
