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EB200 系列电子束光刻胶EB200-012
价格：￥电议
品牌名称：$brandModel.Title(进口品牌)型号： 原产地：中国大陆 发布时间：2024/2/18 9:16:04更新时间：2024/11/16 8:55:54
产品摘要：EB200 系列正性电子束光刻胶主要应用于射频芯片、光电子芯片、掩膜制作等域，用于亚微米光刻工艺中图形掩膜层制作，EB200 系列产品具有高分辨率、高感度、抗刻蚀等优点，产品技术、原材料已实现自主可控
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详细内容
EB200 系列正性电子束光刻胶主要应用于射频芯片、光电子芯片、掩膜制作等域，
用于亚微米光刻工艺中图形掩膜层制作，EB200 系列产品具有高分辨率、高感度、抗刻蚀等
优点，产品技术、原材料已实现自主可控。EB200 series positive E-beam resist is used in
sub-micron lithography process for RF chip, optoelectronic chip, mask layer production etc., EB200 series products have high resolution，sensitivity ａnd dry etch resistance. 产品性能
膜厚范围:30-500nm；
高分辨率（20nm）；
高感度~60μC/cm2 (Dose to clear)；
良好的工艺宽容度；
耐刻蚀性能；
安全溶剂;
FEATURES
The thickness range：30-500nm;
High resolution (20nm);
High Sensitivity ~60μC/cm2；
Good process margin latitude;
Good dry etch resistance ;
Safety solvent;
产品型号及参数 PRODUCT RANGE & PARAMETER
Spin Curve Pattern Profiles
Sensitivity curve Dry etch resistance
Product name EB200-040 EB200-030 EB200-020 EB200-012
Film thickness 650-350nm 500-250nm 300-200nm 200-30nm
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