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紫外宽谱光刻胶BN301系列
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品牌名称：$brandModel.Title(进口品牌)型号： 原产地：中国大陆 发布时间：2024/3/21 9:46:14更新时间：2024/12/21 9:48:56
产品摘要：BN301系列紫外负型光刻胶是一类采用宽谱紫外线曝光的负性光刻胶，主要用于半导体分立器件及其它微型器件的制作。 本产品粘度可以在20-60mPa.s范围内调整， 覆盖光刻胶膜厚范围2.0-3.0um, 在多种基片上均有良好的粘附性,抗湿法腐蚀性能良好
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详细内容
BN301系列紫外负型光刻胶是一类采用宽谱紫外线曝光的负性光刻胶，主要用于半导体分立器件及其它微型器件的制作。 本产品粘度可以在20-60mPa.s范围内调整， 覆盖光刻胶膜厚范围2.0-3.0um, 在多种基片上均有良好的粘附性,抗湿法腐蚀性能良好
BN303系列紫外负型光刻胶是一类采用宽谱紫外线曝光的负性光刻胶，主要用于中小规模集成电路、分立器件及其它微型器件的制作。 本产品粘度可以在２９－１００mPa.s范围内调整， 覆盖光刻胶膜厚范围0.85-2.1um. 实用分辨率可达5μm, 在多种基片上均有良好的粘附性,抗湿法腐蚀性能良好
BN308系列紫外负型光刻胶是一类采用宽谱紫外线曝光的负性光刻胶，主要用于分立器件及其它微型器件的制作。本产品粘度可以在140－500mPa.s范围内调整， 覆盖光刻胶膜厚范围2.2-6um. 实用分辨率可达8μm, 在多种基片上均有良好的粘附性,抗湿法腐蚀性能优异。
BN310系列紫外负型光刻胶是一类采用宽谱紫外线曝光的负性光刻胶，主要用于中小规模集成电路、分立器件及其它微型器件的制作。本产品粘度可以在27－39mPa.s范围内调整， 覆盖光刻胶膜厚范围0.85-1um. 实用分辨率可达2μm, 在多种基片上均有良好的粘附性,含防光晕染料，可在高反射基片上使用
BN303系列紫外负型光刻胶是一类采用宽谱紫外线曝光的负性光刻胶，主要用于中小规模集成电路、分立器件及其它微型器件的制作。 本产品粘度可以在２９－１００mPa.s范围内调整， 覆盖光刻胶膜厚范围0.85-2.1um. 实用分辨率可达5μm, 在多种基片上均有良好的粘附性,抗湿法腐蚀性能良好
BN308系列紫外负型光刻胶是一类采用宽谱紫外线曝光的负性光刻胶，主要用于分立器件及其它微型器件的制作。本产品粘度可以在140－500mPa.s范围内调整， 覆盖光刻胶膜厚范围2.2-6um. 实用分辨率可达8μm, 在多种基片上均有良好的粘附性,抗湿法腐蚀性能优异。
BN310系列紫外负型光刻胶是一类采用宽谱紫外线曝光的负性光刻胶，主要用于中小规模集成电路、分立器件及其它微型器件的制作。本产品粘度可以在27－39mPa.s范围内调整， 覆盖光刻胶膜厚范围0.85-1um. 实用分辨率可达2μm, 在多种基片上均有良好的粘附性,含防光晕染料，可在高反射基片上使用
热门标签：BN308系列紫外负型光刻胶 DK1088
