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厦门良厦贸易有限公司 主营产品:美国PTI粉尘,德国DMT,KSL,粉尘,AATCC,SDC,JAMESH,JIS标准品

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lift off光刻胶 LOL2000

价格:¥电议

品牌名称:$brandModel.Title(进口品牌)型号: 原产地:中国大陆 发布时间:2024/4/28 9:14:16更新时间:2024/12/20 9:02:15

产品摘要:LOL2000

产品完善度: 访问次数:156

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手机网站:http://m.yituig.com/c133951/

商铺地址:http://www.xmliangxia.com

详细内容

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Lift off光刻胶 光刻胶型号 适用光谱 厚度范围/um 分辨率 适用工艺
RN 218系列 g/h/i-Line 4-12um 2um lift off 厚膜负性光刻胶
RN 246系列 g/h/i-Line 4-12um 2um lift off 负性光刻胶
ma-N 400系列/1400系列 g/h/i-Line 4-12um 0.5um 负性光刻胶,可用于传统光刻和lift off工艺,适用于高温工艺

AZ nLOF 2000系列

i-line

2-11um

0.5um lift off 负性光刻胶,耐特高温;可用于RIE工艺

LOR/PGMI

g/h/i-Line

0.35-7

0.5um 双层胶工艺
LOL2000 g/h/i-Line 130nm-300nm 0.5um 双层胶工艺
Lift off光刻胶 光刻胶型号 适用光谱 厚度范围/um 分辨率 适用工艺
RN 218系列 g/h/i-Line 4-12um 2um lift off 厚膜负性光刻胶
RN 246系列 g/h/i-Line 4-12um 2um lift off 负性光刻胶
ma-N 400系列/1400系列 g/h/i-Line 4-12um 0.5um 负性光刻胶,可用于传统光刻和lift off工艺,适用于高温工艺

AZ nLOF 2000系列

i-line

2-11um

0.5um lift off 负性光刻胶,耐特高温;可用于RIE工艺

LOR/PGMI

g/h/i-Line

0.35-7

0.5um 双层胶工艺
LOL2000 g/h/i-Line 130nm-300nm 0.5um 双层胶工艺

热门标签:LOL2000 

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