电子束光刻胶PMMA
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详细内容
HSQXR-1541-006
EB85nm~180nm
6nm
佳分辨率负胶,抗刻蚀
Z520
0.05-1
10-50nm
高分辨率电子束正胶,抗刻蚀
PMMA
电子束正胶
EBL 6000系列
0.1-0.5
50nm
负性电子束光刻胶
ma-N2400系列
0.1-1.5
30nm
负性电子束光刻胶
纳米压印胶
mr-NIL 6000E
热固化和UV固化
0.1-1
50nm
可用于纳米图形的制造、刻蚀、多层系统等
mr-I 9000M
热固化
0.1-1
50nm
mr-UVCur21
UV固化
0.1-5
50nm
光固化胶
Ormo系列
g/h/i-Line
0.1-300
50nm
适用于制造光栅、微型镜片、光耦合器和连接器等
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热门标签:PMMA495