AR-N 4400 厚胶
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详细内容
i线、g线、深紫外、X-ray、电子束等都可以实现曝光。涂胶厚度从几十微米到上百微米,覆盖能力好,可用于表面粗糙的wafer表面涂覆,且剖面陡直,高分辨率。化学放大胶,灵敏度也非常高。可用于LIGA、电镀等工艺。采用碱性水溶液显影,除胶非常容易,可以提到传统的SU8胶。
AR-N 4400 厚胶,化学放大胶,可以做lift-off工艺
i线、g线、深紫外、X-ray、电子束等都可以实现曝光。涂胶厚度从几十微米到上百微米,覆盖能力好,可用于表面粗糙的wafer表面涂覆,且剖面陡直,高分辨率。化学放大胶,灵敏度也非常高。可用于LIGA、电镀等工艺。采用碱性水溶液显影,除胶非常容易,可以提到传统的SU8胶。00000000000000000000000000000000000000000000000000000000000000000000000000000000000000000000000000000000000
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