AR-P 6200 超高分辨率、高耐刻蚀电子束正胶
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详细内容
高分辨率,通过简单的工艺即可得到10nm甚至更小的结构。高深宽比(可达20:1),高对比度(>15)。良好的耐干法刻蚀性能,是PMMA胶的2倍。完全可以取代ZEP胶,经济实惠,并且采购简单,包装规格多样化。0000000000000000000000000000000000000000000000000000000000000000000000000000000000000000000000000000
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AR-P 6510 (PMMA厚胶)LIGA工艺用正胶
以PMMA为基础开发出的电子束厚胶,厚度从10~250μm不等,图形剖面陡直。主要用于LIGA工艺和X-Ray 曝光工艺。