AZ 光刻胶
价格：￥电议
品牌名称：$brandModel.Title(进口品牌)型号： 原产地：中国大陆 发布时间：2024/6/19 11:12:05更新时间：2024/11/26 9:00:14
产品摘要：烘 ：100℃ 60 (DHP)曝光 ：G线步进式曝光机/接触式曝光机
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详细内容
AZ 系列光刻胶
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烘 ：100℃ 60 (DHP)
曝光 ：G线步进式曝光机/接触式曝光机
显影 ：AZ300MIF (2.38%) 23℃ 60 Puddle
清洗 ：去离子水30
后烘 ：120℃ 120 (DHP)
剥离 ：AZ剥离液及/或氧等离子体灰化
特 征
1) 高感光度,高产出率
2) 高附着性,特别为湿法刻蚀工艺改进
3) 广泛应用于半导体行业
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