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电子束光刻胶 495 PMMA 纳米结构 Microchem
价格：￥电议
品牌名称：$brandModel.Title(进口品牌)型号： 原产地：中国大陆 发布时间：2024/6/20 10:50:21更新时间：2024/12/24 9:19:43
光刻胶型号
适用光谱厚度范围/um分辨率适用工艺
电子束光刻胶
HSQXR-1541-006
EB
85nm~180nm
6nm
佳分辨率负胶，
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详细内容
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类型 | 光刻胶型号 | 适用光谱 | 厚度范围/um | 分辨率 | 适用工艺 |
电子束光刻胶 | HSQXR-1541-006 | EB | 85nm~180nm | 6nm | 佳分辨率负胶，抗刻蚀 |
Z520 | 0.05-1 | 10-50nm | 高分辨率电子束正胶,抗刻蚀 | ||
PMMA | 电子束正胶 | ||||
EBL 6000系列 | 0.1-0.5 | 50nm | 负性电子束光刻胶 | ||
ma-N2400系列 | 0.1-1.5 | 30nm | 负性电子束光刻胶 | ||
纳米压印胶 | mr-NIL 6000E | 热固化和UV固化 | 0.1-1 | 50nm | 可用于纳米图形的制造、刻蚀、多层系统等 |
mr-I 9000M | 热固化 | 0.1-1 | 50nm | ||
mr-UVCur21 | UV固化 | 0.1-5 | 50nm | ||
光固化胶 | Ormo系列 | g/h/i-Line | 0.1-300 | 50nm | 适用于制造光栅、微型镜片、光耦合器和连接器等 |
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