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产品展示

供应大气旋转等离子设备

点击次数:574发布时间:2018/10/23 16:33:08

供应大气旋转等离子设备

更新日期:2018/10/23 16:33:08

所 在 地:中国大陆

产品型号:CRF-APO-DP1020-A

品牌名称:诚峰智造

简单介绍:主要应用于电子行业的手机壳印刷、涂覆、点胶等前处理,手机屏幕的表面处理;国防工业的航空航天电连接器表面清洗;通用行业的丝网印刷、转移印刷前处理等。

优质供应

详细内容

名称(Name
喷射型AP等离子处理系统
型号(Model
CRF-APO-DP1020-A
电源(Power supply
220V/AC,50/60Hz
功率(Power
1000W/25KHz
处理高度(Processing height
5-15mm
处理宽幅(Processing width
20-80mmOption
内部控制模式(Internal control mode
模拟控制
工作气体(Gas
Compressed Air 0.4mpa

 

可选配多种类型喷嘴,使用于不同场合,满足各种不同产品和处理环境;


设备尺寸小巧,方便携带和移动,节省客户使用空间;


可In-Line式安装于客户设备产线中,减少客户投入成本;


使用寿命长,保养维修成本低,便于客户成本控制;


主要应用于电子行业的手机壳印刷、涂覆、点胶等前处理,手机屏幕的表面处理;国防工业的航空航天电连接器表面清洗;通用行业的丝网印刷、转移印刷前处理等。 




等离子清洗/刻蚀机产生等离子体的装置是在密封容器中设置两个电极形成电场,用真空泵实现一定的真空度,





随着气体越来越稀薄,分子间距及分子或离子的自由运动距离也愈来愈长,受电场作用,它们发生碰撞而形成





等离子体,这些离子的活性很高,其能量足以破坏几乎所有的化学键,在任何暴露的表面引起化学反应,不同





气体的等离子体具有不同的化学性能,如氧气的等离子体具有很高的氧化性,能氧化光刻胶反应生成气体,从





而达到清洗的效果;腐蚀性气体的等离子体具有很好的各向异性,这样就能满足刻蚀的需要。利用等离子处理





时会发出辉光,故称之为辉光放电处理。







等离子体清洗的机理,主要是依靠等离子体中活性粒子的“活化作用”达到去除物体表面污渍的目的。就反应





机理来看,等离子体清洗通常包括以下过程:无机气体被激发为等离子态;气相物质被吸附在固体表面;被吸





附基团与固体表面分子反应生成产物分子;产物分子解析形成气相;反应残余物脱离表面。

 

 

PTFE


等离子体清洗技术的特点是不分处理对象的基材类型,均可进行处理,对金属、半导体、氧化物和大多数





高分子材料,如聚丙烯、聚脂、聚酰亚胺、聚氯乙烷、环氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地处理,并可实现整






体和局部以及复杂结构的清洗。

 

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联系人:陈生

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企业档案

  • 会员类型:免费会员
  • 工商认证: 【未认证】
  • 最后认证时间:
  • 法人:
  • 注册号:
  • 企业类型:生产商
  • 注册资金:人民币1000万

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