KH-3500Plus型全能型薄层色谱扫描仪
1、采用了全自动二维狭缝,可调节扫描光斑大小,为;
2、可以进行沿X轴、Y轴两个方向的二维扫描,为国内首创;
3、使用24位A/D数模转换器的薄层色谱扫描仪,信号处理精度、扫描精度大大提高;
4、测量室带有254nm、365nm、白光观察灯,为;
5、波长范围为190 nm~900 nm,是波长范围*宽的薄层色谱扫描仪;
6、具有强大的荧光分析功能,*多可以安装6片滤光片;
7、用户可使用电子签名、21CFR Part11及3Q认证;
9、将薄层图像分析软件列为标配;
10、带有薄层点样软件,可自动条带点样,使定量更精确;
11、具有图像轨迹跟踪功能,便于轨迹校正;
12、中药指纹图谱功能列为标配,具有强大的聚类分析功能;
1、仪器具有光电与图像两个检测器,可同时得到扫描与图像数据;
2、可用图像指导薄层色谱扫描,自动进行轨迹追踪,速度更快,结果更准;
3、扫描速度快,定量准确;
4、高度可操作性,操作非常容易;
5、高度自动化,可控制全自动展开仪、全自动定量喷雾系统、薄层浸入衍生化器等薄层色谱周边仪器;
6、可条带点样,并自动代入薄层色谱扫描程序;
1、KH-3500TopStation主机(含光源、光栅单色仪、移动平台、USB串口);
2、GoodLook-1000型全自动薄层色谱成像系统;
3、Tstar-3500Plus专业薄层中药指纹图谱工作站;
4、SP-30E型全自动薄层色谱点样仪;
KH-3500Plus条带点样功能:
条带点样分离数多、点样均匀、重现性好,是仪器化薄层色谱分析的点样方式。KH-3500Plus集成了全自动条带点样仪,使用高细分精度步进电机点样,准确度高、条带均一,非常便于薄层色谱扫描分析。可以将点样坐标直接代入薄层色谱扫描软件,直接进行薄层色谱扫描。
KH-3500Plus薄层色谱图像分析功能:
薄层色谱图像是薄层色谱独特的优势,非常感性直观,中药新药研究申报必须提供薄层色谱图片,GoodLook-1000是一种高性能、操作十分简单流畅的图像分析系统,符合2005、2010版中国药典薄层色谱法3.5的规定,与卡玛公司的数码成像系统处以同一档次,产品配置更高,功能更为强大,完全可以取代进口产品,完成薄层图像记录所有功能,并拥有一定的定量、半定量功能,适用于中药指纹图谱分析、中药新药申报、中药质量分析、快速检测分析等工作;
1、测量方式:反射吸收法、透射吸收法、反射荧光法、透射荧光法;
2、光谱范围:190nm~900nm(连续可调);
3、光源:卤钨灯、氘灯、汞灯(自动切换);
4、单色器:全息光栅(1200线/mm);
5、光谱带宽:5nm、10nm、20nm可选标配(10nm);
6、波长准确度:±1nm;波长重现性:优于0.1nm;
7、*小位移分辨率为:25~50μm;
8、成像波长:254nm、365nm 、白光(全自动控制);
9、测量平台:可放200mm×200mm色谱板(可定制300×200mm色谱板);
10、扫描速度:0~120mm/s;
11、数模转换:24位A/D,八通道,20μs、2次转换;
12、测量室照明:标配254、365nm×8W,白光均为标配;
13、荧光滤光片:K320、K360、K400、K450、K510、K550为标配,6个滤光片位置,其他滤光片波长可定制;
14、狭缝尺寸:长0-8mm、宽度0-4mm、连续可变、任意组合,电脑自动控制;
15、检测器:光电倍增管;
16、数据采集:数据采集速度30000DPS,数据传输:2000000baud;
17、扫描方式:线性扫描;
18、操作系统:WIN7/8/10;
19、电源接口:USB接口 220V 300W;
Tstar-3500Plus专业薄层中药指纹图谱工作站功能:
1、管理功能:样品管理、仪器管理;自动检定控制硬件、确定光源寿命、操作人员管理软件、实验条件管理、文档软件管理、符合GMP/GLP要求;(选配)
2、薄层色谱扫描软件:包括单波长、双波长、多波长扫描、光谱扫描功能;可使用单点、两点、多点法进行校正(线性方程、多元方程、Michaelis-Menten方程),对不同Rf值斑点采用不同的校正方式;可计算峰高、峰宽、峰面积、Rf值、含量比例、RSD值;
3、薄层图像分析优化功能:自动控制光源、图形优化等;
4、薄层色谱点样功能:可控制上海科哲的自动点样仪;
5、相似度比较功能;
6、色谱图形比较功能(可三维显示);
7、图像轨迹跟踪扫描校正功能;
8、紫外可见光谱分析比较功能(可三维显示);
9、2000/2005/2010/2015版中国药典/中国兽药典薄层扫描方法数据库;
10、软件符合GMP/GLP及美国FDA 21CFR part11规范;
11、可控制的仪器有:薄层色谱扫描仪、薄层色谱成像系统、全自动展开仪、全自动定量喷雾系统、薄层浸入衍生化器;
由于技术不断进步,本公司保留设计更改之权利,更改恕不通知敬请谅解。