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光刻机&3D打印机
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匀胶涂覆机
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- 美国MMR霍尔效应测量仪
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紫外清洗等离子清洗机
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太阳能检测仪
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Rion 液体光学颗粒度仪
液体光学颗粒度仪
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日本Elionix
化学开封机 / 激光开封机
光刻胶/硅片
半导体辅助工艺/光刻胶
日立Hitachi
UV灯
已选条件
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OCTOPLUS 1000 多波束电子束
德国 Eberl 的多波束电子束OCTOPLUS 1000系统，专为最大12英寸SiGe外延生长设计，适用于MBE（分子束外延）工艺。该系统提供高效、高精度的沉积技术，确保高质量薄膜的生长，广泛应用于半导体制造领域。
价 格：￥电议型 号：产 地：欧洲
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德国Eberl 多波束电子束 OCTOPLUS 1000
德国Eberl 多波束电子束 OCTOPLUS 1000, 用于大 12 英寸基底 SiGe 外延生长的 MBE 系统
价 格：￥电议型 号：产 地：欧洲
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HBO350W/S，HBO5000W/S,HBO200W/DC,HBO1000W/DSUSS光刻机用曝光灯HBO系列
SUSS苏斯/休斯，EVG, OAI等系列光刻机用曝光灯HBO系列，$r$nSUSS苏斯，EVG, OAI公司生产的半导体和太阳能行业用光刻机，目得到业界的广泛认同，该系列光刻机曝光系统的曝光灯，主要是由德国欧司朗及日本牛尾公司生产的曝光灯进行配套供应。欧司朗/牛尾曝光灯系列，具备良好的光通量，稳定的光强度以及优质的品质受到业界的青睐。
价 格：￥电议型 号：HBO350W/S，HBO5000W/S,HBO200W/DC,HBO1000W/D产 地：中国大陆
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NIE-4000,NIE-3500,NIR-4000,NIE-3000美Nano-master等离子清洗/灰化系统
NANO-MASTER等离子清洗和灰化系统设计用于广泛的需求，从批处理和单晶圆的光刻胶剥离到晶圆表面改性都可以涵盖。这些系统通过计算机控制，可以配套不同的等离子源，加热和不加热的基片夹具，以及独一无二的从等离子刻蚀切换到RIE刻蚀模式的能力。$r$n$r$n$r$n$r$n$r
价 格：￥电议型 号：NIE-4000,NIE-3500,NIR-4000,NIE-3000产 地：美洲
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NSC-4000,NSC-3500,NSC-3000,NSC-1000美Nano-master磁控溅射系统
美Nano-master磁控溅射系统：$r$n$r$nNSC-4000独立式磁控溅射系统，可支持共溅射等能力的扩展$r$n$r$nNSC-3500紧凑型独立式热蒸镀，可以支持金属材料的DC溅射，介质材料的RF溅射，以及脉冲DC溅射等应用。$r$n$r$nNSC-3000可支持多4个靶的DC溅射或RF溅射$r$n$r$nNSC-1000单金靶靶材的台式溅射系统，不但可用于电镜制备，也可以用于常规的金属溅射
价 格：￥电议型 号：NSC-4000,NSC-3500,NSC-3000,NSC-1000产 地：美洲
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NTE-4000,NTE-3500,NTE-3000,NTE-1000美Nano-master热蒸镀系统
美Nano-master热蒸镀系统：NTE-4000 独立式电子束蒸镀，NTE-3500 紧凑型独立式热蒸镀，NTE-3000 双蒸源台式热蒸镀系统，NTE-1000 简便型热蒸镀。热蒸镀系统可以跟NANO-MASTER那诺-马斯特的其它任意真空系统组成双系统。
价 格：￥电议型 号：NTE-4000,NTE-3500,NTE-3000,NTE-1000产 地：美洲
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MC1000日立Hitachi 离子溅射仪
日立Hitachi 离子溅射仪 MC1000,采用LCD触摸屏，可以更加简便地设定加工条件,可处理较厚或较大的样品(选配件),记忆功能可存储常用加工条件$r$n.
价 格：￥电议型 号：MC1000产 地：日本
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HS1000美国NANOVEA三维表面形貌仪
美国NANOVEA三维表面形貌仪HS1000型，是一款高速的三维形貌仪，最高扫描速度可达1m/s,采用国际领先的白光共聚焦技术，可实现对材料表面从纳米到毫米量级的粗糙度测试，具有测量精度高，速度快，重复性好的优点，该仪器可用于测量大尺寸样品或质检现场使用。
价 格：￥电议型 号：HS1000产 地：美洲
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JSX-1000S日本JEOL 能量色散型X射线荧光分析仪
日本JEOL 能量色散型X射线荧光分析仪 JSX-1000S，采用触控屏操作、提供更加简便迅速的元素分析。具备常规定性、定量分析（FP法・检量线法）、RoHS元素筛选功能等。利用丰富的硬件/软件选配件、还能进行更广泛的分析。
价 格：￥电议型 号：JSX-1000S产 地：日本
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JEM-1000超高压扫描透射电子显微镜
JEM-1000 超高压透射电子显微镜，由于超高压透射电子显微镜的加速电压很高电子波长很短，即使增大物镜靴之间的间隙，也能获得高分辨率的图像。此外，电子束具有很强的穿透能力，即使厚样品也能观察到清晰的图像，这是超高压透射电子显微镜的大优点。
价 格：￥电议型 号：JEM-1000产 地：日本
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RM 1000和RM 2000反射膜厚仪
$r$n反射膜厚仪RM 1000和RM 2000$r$n反射膜厚仪RM 1000和RM 2000，反射膜厚仪RM 1000/2000具有200nm-930nm的紫外-近红外光谱范围。光学布局为光吞吐量优化，以便即使在粗糙或曲面上也能可靠地测量n和k。精确的高度和倾斜特别适用于精确的单光束反射率测量，且测量非常稳定。以激光椭偏仪的亚埃精度将可测量的厚度范围扩展到25埃米，从而明确地确定厚度。
价 格：￥电议型 号：RM 1000和RM 2000产 地：欧洲
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P-300B Advanced ALD高级原子沉积机
PICOSUN P-300B Advanced ALD 高级原子沉积机,基片尺寸和类型 300mm晶圆10片/批次（标准间距）,200mm晶圆25+2片/批次（标准间距）,(W x H x D) 149 cm x 191 cm x 111 cm,标准设备验收标准为 Al2O3 工艺.
价 格：￥电议型 号：P-300B Advanced ALD产 地：欧洲
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P-1000 Pro ALDPICOSUN 生产型原子层沉积机
德国 PICOSUN P-1000 Pro ALD 生产型原子层沉积机,156 mm x 156 mm硅片800～1000片/批次（双面/背对背）,高达400 mm x 600 mm玻璃基板30～50片/批次（双面/背对背）,(W x H x D) 230 cm x 270 cm x 125 cm,标准设备验收标准为 Al2O3 工艺.
价 格：￥电议型 号：P-1000 Pro ALD产 地：欧洲
