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深圳市蓝星宇电子科技有限公司 主营产品:光刻机,真空镀膜机,离子刻蚀机,,半导体辅助材料,半导体微纳检测仪器,太阳能吸收率发射击队率检测仪,,实验检测仪器设备,紫外线UV光清洗机UV灯.

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手机网站:http://m.yituig.com/c143096/

商铺地址:http://www.lxyee.net

光刻机&3D打印机

镀膜沉积机

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半导体辅助设备

半导体微纳检测仪器

实验检测仪器

紫外清洗等离子清洗机

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德国YXLON 检测仪

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Rion 液体光学颗粒度仪

液体光学颗粒度仪

奥地利EVG光刻杨键合机压印机

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德国Lecia 切片掩膜一体机

日本Elionix

化学开封机 / 激光开封机

光刻胶/硅片

半导体辅助工艺/光刻胶

日立Hitachi

UV灯

已选条件

  • SI 500德国Sentech ICP-RIE等离子蚀刻机- SI 500

    德国Sentech ICP-RIE等离子蚀刻机- SI 500,8英寸的晶圆

    价 格:¥电议型 号:SI 500产 地:中国大陆

  • SI 500-300德国 Sentech 多晶圆等离子刻蚀机

    ICP-RIE Plasma Etcher - SI 500-300 Multiwafer SI 500-300多晶圆等离子刻蚀机300 mm / 400 mm 载板,用于多片晶圆

    价 格:¥电议型 号:SI 500-300产 地:欧洲

  • SI 500 RIE德国Sentech 等离子刻蚀机

    德国Sentech 等离子刻蚀机 SI 500 RIE,RIE 蚀刻机,最大 8 英寸晶圆, 带可选的 ICP 源扩展

    价 格:¥电议型 号:SI 500 RIE产 地:欧洲

  • SI 500 C德国Sentech 低温等离子蚀刻机

    德国Sentech 低温等离子蚀刻机 SI 500 C,最大 8 英寸晶圆,-150°C...+150°C

    价 格:¥电议型 号:SI 500 C产 地:欧洲

  • Etchlab 200德国Sentech 反应离子刻蚀机

    德国Sentech 反应离子刻蚀机 Etchlab 200,最大 8 英寸晶圆,硅及相关材料的蚀刻

    价 格:¥电议型 号:Etchlab 200产 地:欧洲

  • Etchlab 380德国Sentech 多晶圆等离子体反应刻蚀机

    德国Sentech 多晶圆等离子体反应刻蚀机 Etchlab 380,最大 300 mm 晶圆,用于多个晶圆的 380 mm 载体

    价 格:¥电议型 号:Etchlab 380产 地:欧洲

  • SI 591德国 Sentech 等离子刻蚀机

    德国 Sentech 等离子刻蚀机 SI 591, 所有材料的蚀刻,金属溅射,亚微米蚀刻

    价 格:¥电议型 号:SI 591产 地:欧洲

  • Depolab 200德国Sentech PECVD沉积设备

    德国Sentech PECVD沉积设备 Depolab 200, 最大 8 英寸晶圆,高达 400°C 的基板温度,低频混合,300-500 kHz 可选

    价 格:¥电议型 号:Depolab 200产 地:欧洲

  • SI 500 PPD德国Sentech PECVD沉积设备

    德国Sentech PECVD沉积设备 SI 500 PPD,最大 8 英寸晶圆, 高达 350°C 的基板温度, 低频混合,300-500 kHz可选

    价 格:¥电议型 号:SI 500 PPD产 地:欧洲

  • SI 500 D德国Sentech PECVD沉积设备

    德国Sentech PECVD沉积设备 SI 500 D,最大 8 英寸晶圆,RT....300/400°C 基板温度

    价 格:¥电议型 号:SI 500 D产 地:欧洲

  • SI ALD / SI PEALD德国Sentech 原子层沉积设备

    德国Sentech 原子层沉积设备 SI ADL LL/ SI PEALD LL,在 8 英寸晶圆和玻璃基板上实现高度均匀的薄膜厚度, 在具有高纵横比的模型上进行 3D保形沉积, 400/500°C 基板温度, 最大 8 英寸晶圆.

    价 格:¥电议型 号:SI ALD / SI PEALD产 地:欧洲

  • SI ADL LL/ SI PEALD LL德国Sentech 原子层沉积设备

    德国Sentech 原子层沉积设备 SI ADL LL/ SI PEALD LL,在 8 英寸晶圆和玻璃基板上实现高度均匀的薄膜厚度, 在具有高纵横比的模型上进行 3D保形沉积, 400/500°C 基板温度, 最大 8 英寸晶圆.

    价 格:¥电议型 号: SI ADL LL/ SI PEALD LL产 地:欧洲

  • 德国Sentech多腔体沉积镀膜刻蚀设备

    德国Sentech多腔体沉积镀膜刻蚀设备,集群配置,所有等离子工具都可以排列在一个集群工具中。提供用于研发和高吞吐量生产的集群。通过单个晶圆装载锁和/或晶圆盒站装载晶圆。

    价 格:¥电议型 号:产 地:欧洲

  • SLI 670德国Sentech激光干涉仪

    德国Sentech激光干涉仪 SLI 670,670 nm 波长,光斑尺寸 100 μm,电动载物台,反射率和干涉模式

    价 格:¥电议型 号: SLI 670产 地:欧洲

  • OCS201C,OCS202C,OCS203C,OCS205C,OCS207C德国Sentech 集成等离子刻蚀和沉积的多腔系统

    德国Sentech 集成等离子刻蚀和沉积的多腔系统,包括等离子刻蚀和/或沉积腔体、传送腔室、预真空室或片盒站。传送腔室包括传送机械手臂,可适用于三至六个端口。可以使用多达两个片盒站来增加产量。传送腔室可以配备多种选择。

    价 格:¥电议型 号:OCS201C,OCS202C,OCS203C,OCS205C,OCS207C产 地:欧洲

  • ALD德国Sentech 实时监测仪

    SENTECH ALD实时监测仪是一种新型的光学诊断工具,是心灵超高分辨率的单一ALD循环。在不破坏真空的条件下分析薄膜特性(生长速率,厚度,折射率),在短时间内开发新工艺、实时研究ALD循环中的反应机理是SENTECH ALD实时监测仪的主要应用。

    价 格:¥电议型 号:ALD产 地:欧洲

  • MDPmap德国Sentech光伏测量仪

    德国Sentech光伏测量仪MDPmap,灵活的自动扫描系统,是专为半导体晶片或部分工艺过的晶片的多功能、非接触和少子寿命测量而设计的。MDPmap能够连续地改变激发脉冲宽度,从非常短的脉冲(100ns)到稳态测量(几ms),研究不同深度的缺陷动力学和少子寿命特性。直观的绘图软件适用于有效的常规测量以及复杂的研发应用。

    价 格:¥电议型 号:MDPmap产 地:欧洲

  • Sentech 集成等离子刻蚀和沉积的多腔系统

    $r$nSentech 集成等离子刻蚀和沉积的多腔系统$r$nSentech 集成等离子刻蚀和沉积的多腔系统,SENTECH多腔系统包括等离子刻蚀和/或沉积腔体、传送腔室、预真空室或片盒站。传送腔室包括传送机械手臂,可适用于三至六个端口。可以使用多达两个片盒站来增加产量。传送腔室可以配备多种选择。$r$n

    价 格:¥电议型 号:产 地:欧洲

  • MDPspot德国Sentech光伏测量仪器

    $r$n德国Sentech光伏测量仪器MDPspot,具有成本效益的台式少子寿命测试仪MDPspot可用于表征晶片或面。它为少子寿命测量提供了一个测量点。$r$n $r$n低成本桌面式寿命测量系统,用于手动操作表征不同制备阶段的各种不同硅样品。可选的手动操作Z轴用于厚度多达156毫米的样品。标准软件可输出可视化的测量结果。$r$n $r$n

    价 格:¥电议型 号:MDPspot产 地:欧洲

  • SENperc PV德国Sentech光伏测量仪

    SENperc PV 是PERC电池制造质量控制的创新解决方案。SENperc PV 测量Al2O3/SiNx堆叠层和用于钝化PERC电池的单层膜。监测沉积过程的稳定性。由此,可以优化维护时间间隔。$r$n

    价 格:¥电议型 号:SENperc PV产 地:欧洲

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