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光刻机&3D打印机
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匀胶涂覆机
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紫外清洗等离子清洗机
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- 美Nano-master 晶圆清洗机
- 美国Novascon UV清洗机
- 美国UVOCS UV清洗机
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太阳能检测仪
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德国Netzsch
Rion 液体光学颗粒度仪
液体光学颗粒度仪
奥地利EVG光刻杨键合机压印机
尼康Nikon光刻机
德国Lecia 切片掩膜一体机
日本Elionix
化学开封机 / 激光开封机
光刻胶/硅片
半导体辅助工艺/光刻胶
日立Hitachi
UV灯
已选条件
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NIE-4000,NIE-3500,NIR-4000,NIE-3000美Nano-master等离子清洗/灰化系统
NANO-MASTER等离子清洗和灰化系统设计用于广泛的需求，从批处理和单晶圆的光刻胶剥离到晶圆表面改性都可以涵盖。这些系统通过计算机控制，可以配套不同的等离子源，加热和不加热的基片夹具，以及独一无二的从等离子刻蚀切换到RIE刻蚀模式的能力。$r$n$r$n$r$n$r$n$r
价 格：￥电议型 号：NIE-4000,NIE-3500,NIR-4000,NIE-3000产 地：美洲
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NIE-4000,NIE-3500,NIR-4000,NIE-3000美NANO-MASTER IBM离子铣/IBE离子束刻蚀系统
IBM离子铣/IBE离子束刻蚀系统：$r$n$r$nNIE-4000 独立式 IBE 刻蚀系统$r$n$r$nNIE-3500 紧凑型独立式 IBE 刻蚀系统$r$n$r$nNIR-4000 独立式 IBE / RIE 双刻蚀系统$r$n$r$nNIE-3000 台式 IBE 刻蚀系统NSC-3000可支持多4个靶的DC溅射或RF溅射$r$n$r$n
价 格：￥电议型 号：NIE-4000,NIE-3500,NIR-4000,NIE-3000产 地：美洲
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