NIL(第1页)_深圳市蓝星宇电子科技有限公司

HERCULES NIL奥地利EVG紫外纳米压印系统

EVG的HERCULES NIL 300 mm是一个完全集成的纳米压印系统，是EVG的NIL产品组合的新成员。 HERCULES NIL基于模块化平台，在单个平台上将清洗模块，抗蚀剂涂层模块和烘烤预处理模块与EVG的有SmartNIL大面积纳米压印（NIL）模块结合在一起，用于直径大为300 mm的晶片。

价格：￥电议型号：HERCULES NIL产地：中国大陆
EVG7200奥地利SmartNIL紫外纳米压印

奥地利SmartNIL紫外纳米压印：EVG7200，LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层；纳米压印光栅；莲花效应；光子带隙；光学及通讯：光晶体，激光器件；生物技术解决方案：医药分析，血液分析，细胞生长。$r$n$r$n

价格：￥电议型号：EVG7200产地：欧洲
mr-NIL 6000E, mr-I 9000M, mr-UVCur21纳米压印胶

纳米压印胶, mr-NIL 6000E, mr-I 9000M, mr-UVCur21,可用于纳米图形的制造、刻蚀、多层系统等。

价格：￥电议型号：mr-NIL 6000E, mr-I 9000M, mr-UVCur21产地：日本
Minilock-Phantom III美国Trion 具有预真空室的反应离子刻蚀机

Minilock-Phantom III 具有预真空室的反应离子刻蚀机。适用于单个基片或带承片盘的基片(3” - 300mm尺寸)，为实验室和试制线生产环境提供最先进的刻蚀能力。它也具有多尺寸批量处理(4x3”; 3x4”; 7x2”)。系统有多达七种工艺气体可以用于刻蚀各种薄膜，如氧化硅、氮化硅、多晶硅、铝、砷化镓、铬、铜、磷化铟和钛。

价格：￥电议型号：Minilock-Phantom III产地：美洲
Minilock-Orion III美国Trion 等离子增强型化学汽相沉积(PECVD)系统

Minilock-Orion III是一套最先进的等离子增强型化学汽相沉积(PECVD)系统。系统的下电极尺寸可为200mm或300mm，且根据电极配置，可以处理单个基片或带承片盘的基片(3” - 300mm尺寸)，或者多尺寸批量处理基片(4x3”; 3x4”; 7x2”)。可沉积的薄膜包括：氧化物、氮氧化物、无定形硅和碳化硅。

价格：￥电议型号：Minilock-Orion III产地：美洲

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