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半导体辅助工艺/光刻胶
日立Hitachi
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已选条件
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AutoWafer Pro纳米压痕仪
BRUKER Hysitron TI 980 TriboIndenter 加速纳米力学研究进入更高阶段,同时具有高的性能、灵活性、可信度、实用性和速度。基于海思创几十年的技术创新,它为纳米力学表征带来了高水平的性能、功能和易用性。TI 980达到了台优异纳米力学测试仪器所需的所有要求,实现了控制上突出的先进性和高
价 格:¥电议型 号:AutoWafer Pro产 地:欧洲
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AutoWafer Pro美国Sonix晶圆检测设备镜
美Sonix AutoWafer Pro 晶圆检测设备,为全自动晶圆检测设计的机型,使用于 200 和 300MM晶圆。$r$n$r$n$r$n $r$n
价 格:¥电议型 号:AutoWafer Pro产 地:美洲
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ECHO Pro美Sonix超声波扫描显微镜
美 Sonix 全自动超声波扫描显微镜ECHO Pro , 批量 Tray盘和框架直接扫瞄, 编程自动判别缺陷, 高产量,无需人员重复设置, 自动烘干.$r$n$r$n$r$n $r$n
价 格:¥电议型 号:ECHO Pro产 地:美洲
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ECHO-VS, ECHO Pro美国 SONIX 超声波扫描显微镜
美国 SONIX 超声波扫描显微镜:ECHO-VS, ECHO Pro™全自动超声波扫瞄显微镜,SONIX ECHO VS™ 是专为更高精度要求,更复杂元器件设计的新一代设备。ECHO Pro™全自动超声波扫瞄显微镜,编程自动判别缺陷,高产量,无需人员重复设置.
价 格:¥电议型 号:ECHO-VS, ECHO Pro产 地:中国大陆
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JetEtch Pro.美Nisene 自动塑封开封机(化学开封机)
JetEtch Pro.美Nisene 自动塑封开封机(化学开封机),机器尺寸(mm):290 x 290 x 530$r$n
价 格:¥电议型 号:JetEtch Pro.产 地:美洲
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AutoWafe Pro.美国SONIX 晶圆检测设备
美国SONIX 晶圆检测设备 AutoWafe Pro.为全自动晶圆检测设计的机型,主要应用在Bond wafer,MEMS 内部空洞、离层检测,TSV量测方面。
价 格:¥电议型 号:AutoWafe Pro.产 地:美洲
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PlasmaPro 800 RIE英国Oxford 反应离子刻蚀机
$r$nPlasmaPro 800系列是结构紧凑、且使用方便的直开式系统,该系统为大批量晶圆和300mm晶圆上的反应离子蚀刻(RIE)工艺提供了灵活的解决方案。大尺寸的晶圆平台能够处理量产别的批量以及300mm晶圆的工艺。$r$n
价 格:¥电议型 号:PlasmaPro 800 RIE产 地:欧洲
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MDPpro德国Sentech激动扫描系统
$r$n德国Sentech激动扫描系统MDPpro,少子寿命测量仪器的特征在于以1mm分辨率对500mm的一个面在不到4分钟内完成扫描。电阻率和少子寿命的测量完全无触摸。利用微波检测光电导率(MDP)同时测量少子寿命、光电导率、电阻率和p/n导电类型的变化。$r$n
价 格:¥电议型 号:MDPpro产 地:欧洲
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SENpro光谱椭偏仪
德国 Sentech 低成本高效益的光谱椭偏仪SENpro,SENpro椭偏仪是椭偏仪应用的智能解决方案。它具有角度计,入射角度步进值5°。操作简单,快速测量和直观的数据分析相结合,以低成本效益高的设计来测量单层和多层膜的厚度和光学常数。
价 格:¥电议型 号:SENpro产 地:欧洲
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PlasmaPro 100 ALE牛津原子层刻蚀机
PlasmaPro 100 ALE 牛津原子层刻蚀机,市场应用广,包括但不限于: MEMS和传感器、光电子、分立元器件和纳米技术。它具有足够的灵活性,可用于研究和开发,通过打造质量满足生产需求。
价 格:¥ 7型 号:PlasmaPro 100 ALE产 地:欧洲
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PlasmaPro 100 Estrelas牛津深硅刻蚀系统
PlasmaPro 100 Estrelas牛津深硅刻蚀系统,旨在提供深硅蚀刻(DSiE)域的全方位的灵活性以满足微电子机械系统(MEMS)、 先进封装以及纳米技术市场的各种工艺要求。考虑到研究和生产的市场发展,PlasmaPro 100 Estrelas 提供了更加出色的工艺灵活性。
价 格:¥ 7型 号:PlasmaPro 100 Estrelas产 地:欧洲
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PlasmaPro 80 ICP英国牛津OXFORD 等离子体刻蚀机
PlasmaPro 80 ICP 英国牛津OXFORD 等离子体刻蚀机,是一种结构紧凑、小型且使用方便的直开式系统,可提供多种刻蚀解决方案。 它易于放置,便于使用,且能够确保工艺质量。直开式设计允许快速的进行晶圆装卸,是科学研究、原型设计和少量生产的理想选择。 该设备通过优化了的电冷却技术和出色的衬底温度控制来实现高度稳定的工艺结果。
价 格:¥ 4型 号:PlasmaPro 80 ICP产 地:欧洲
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PlasmaPro 80 ICPCVD牛津ICP等离子沉积机
PlasmaPro 80 ICPCVD 牛津ICP等离子沉积机,是一种结构紧凑且使用方便的小型直开式系统,可以提供多种刻蚀和沉积的解决方案。 它易于放置,便于使用,且能够确保工艺性能。直开式设计可实现快速晶圆装卸,是科学研究、原型设计和小批量生产的理想选择。 它通过优化的电冷却和出色的衬底温度控制来实现高性能工艺。
价 格:¥电议型 号:PlasmaPro 80 ICPCVD产 地:欧洲
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PlasmaPro 80 RIE牛津等离子体刻蚀机
PlasmaPro 80 RIE 牛津等离子体刻蚀机,是一种结构紧凑、小尺寸且使用方便的直开式系统,可以提供多种刻蚀和沉积的解决方案。 它易于放置,便于使用,且能确保工艺性能。直开式设计可实现快速晶圆装卸,是研究和小批量生产的理想选择。 它通过优化的电冷却和出色的衬底温度控制来实现高质量的工艺。
价 格:¥电议型 号:PlasmaPro 80 RIE产 地:欧洲
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PICOSUN P-200S Pro ALD生产型原子层沉积机
PICOSUN P-200S Pro ALD 生产型原子层沉积机 ,衬底尺寸和类型:$r$n 。50 – 200 mm /单片$r$n 。156 mm x 156 mm 太阳能硅片$r$n 。150 mm x 150 mm 显示面板$r$n$r$n
价 格:¥电议型 号:PICOSUN P-200S Pro ALD产 地:欧洲
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P-300B Advanced ALD高级原子沉积机
PICOSUN P-300B Advanced ALD 高级原子沉积机,基片尺寸和类型 300mm晶圆10片/批次(标准间距),200mm晶圆25+2片/批次(标准间距),(W x H x D) 149 cm x 191 cm x 111 cm,标准设备验收标准为 Al2O3 工艺.
价 格:¥电议型 号:P-300B Advanced ALD产 地:欧洲
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P-1000 Pro ALDPICOSUN 生产型原子层沉积机
德国 PICOSUN P-1000 Pro ALD 生产型原子层沉积机,156 mm x 156 mm硅片800~1000片/批次(双面/背对背),高达400 mm x 600 mm玻璃基板30~50片/批次(双面/背对背),(W x H x D) 230 cm x 270 cm x 125 cm,标准设备验收标准为 Al2O3 工艺.
价 格:¥电议型 号:P-1000 Pro ALD产 地:欧洲
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Photonic Professional GT2英国Nanobean 电子束光刻机
英国Nanobean NB5 电子束光刻机,具有良好的稳定性,平均正常运行时间超过93%.
价 格:¥电议型 号:Photonic Professional GT2产 地:欧洲