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SI 500德国Sentech ICP-RIE等离子蚀刻机- SI 500
德国Sentech ICP-RIE等离子蚀刻机- SI 500，8英寸的晶圆
价 格：￥电议型 号：SI 500产 地：中国大陆
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SI 500-300德国 Sentech 多晶圆等离子刻蚀机
ICP-RIE Plasma Etcher - SI 500-300 Multiwafer SI 500-300多晶圆等离子刻蚀机300 mm / 400 mm 载板，用于多片晶圆
价 格：￥电议型 号：SI 500-300产 地：欧洲
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SI 500 RIE德国Sentech 等离子刻蚀机
德国Sentech 等离子刻蚀机 SI 500 RIE，RIE 蚀刻机，最大 8 英寸晶圆, 带可选的 ICP 源扩展
价 格：￥电议型 号：SI 500 RIE产 地：欧洲
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SI 500 C德国Sentech 低温等离子蚀刻机
德国Sentech 低温等离子蚀刻机 SI 500 C，最大 8 英寸晶圆，-150°C...+150°C
价 格：￥电议型 号：SI 500 C产 地：欧洲
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Etchlab 200德国Sentech 反应离子刻蚀机
德国Sentech 反应离子刻蚀机 Etchlab 200，最大 8 英寸晶圆，硅及相关材料的蚀刻
价 格：￥电议型 号：Etchlab 200产 地：欧洲
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Etchlab 380德国Sentech 多晶圆等离子体反应刻蚀机
德国Sentech 多晶圆等离子体反应刻蚀机 Etchlab 380，最大 300 mm 晶圆，用于多个晶圆的 380 mm 载体
价 格：￥电议型 号：Etchlab 380产 地：欧洲
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Depolab 200德国Sentech PECVD沉积设备
德国Sentech PECVD沉积设备 Depolab 200， 最大 8 英寸晶圆，高达 400°C 的基板温度，低频混合，300-500 kHz 可选
价 格：￥电议型 号：Depolab 200产 地：欧洲
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SI 500 PPD德国Sentech PECVD沉积设备
德国Sentech PECVD沉积设备 SI 500 PPD,最大 8 英寸晶圆, 高达 350°C 的基板温度, 低频混合，300-500 kHz可选
价 格：￥电议型 号：SI 500 PPD产 地：欧洲
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SI 500 D德国Sentech PECVD沉积设备
德国Sentech PECVD沉积设备 SI 500 D，最大 8 英寸晶圆，RT....300/400°C 基板温度
价 格：￥电议型 号：SI 500 D产 地：欧洲
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SI ALD / SI PEALD德国Sentech 原子层沉积设备
德国Sentech 原子层沉积设备 SI ADL LL/ SI PEALD LL,在 8 英寸晶圆和玻璃基板上实现高度均匀的薄膜厚度, 在具有高纵横比的模型上进行 3D保形沉积, 400/500°C 基板温度, 最大 8 英寸晶圆.
价 格：￥电议型 号：SI ALD / SI PEALD产 地：欧洲
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SI ADL LL/ SI PEALD LL德国Sentech 原子层沉积设备
德国Sentech 原子层沉积设备 SI ADL LL/ SI PEALD LL,在 8 英寸晶圆和玻璃基板上实现高度均匀的薄膜厚度, 在具有高纵横比的模型上进行 3D保形沉积, 400/500°C 基板温度, 最大 8 英寸晶圆.
价 格：￥电议型 号： SI ADL LL/ SI PEALD LL产 地：欧洲
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德国Sentech多腔体沉积镀膜刻蚀设备
德国Sentech多腔体沉积镀膜刻蚀设备,集群配置,所有等离子工具都可以排列在一个集群工具中。提供用于研发和高吞吐量生产的集群。通过单个晶圆装载锁和/或晶圆盒站装载晶圆。
价 格：￥电议型 号：产 地：欧洲
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SLI 670德国Sentech激光干涉仪
德国Sentech激光干涉仪 SLI 670，670 nm 波长，光斑尺寸 100 μm，电动载物台，反射率和干涉模式
价 格：￥电议型 号： SLI 670产 地：欧洲
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AWB-04, AWB-08,ROCK-04,ROCK-08英国AML原位对准晶圆键合机
英国AML原位对准晶圆键合机对准+活化+键合，一站式完成，并具有纳米压印功能。是目前市场上能够实现在同一设备上完成原位对准、激活、键合的设备，是MEMS，IC，和III-V键合工艺的最佳选择
价 格：￥电议型 号： AWB-04, AWB-08,ROCK-04,ROCK-08产 地：欧洲
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TFXRD-300/200日本理学X射线衍射仪
日本理学X射线衍射仪 TFXRD-300/200， 适用于Near-Fab Application的无损方式XRD·Mapping Tool有多种光学元件可选的高精度测角仪，用于氮化镓（GaN)质量管理，可对应大规格晶圆的X射线衍射分析（XRD)系统
价 格：￥电议型 号：TFXRD-300/200产 地：日本
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TFXRD-300/200日本理学X射线衍射仪
日本理学X射线衍射仪 TFXRD-300/200， 适用于Near-Fab Application的无损方式XRD·Mapping Tool有多种光学元件可选的高精度测角仪，用于氮化镓（GaN)质量管理，可对应大规格晶圆的X射线衍射分析（XRD)系统
价 格：￥电议型 号：TFXRD-300/200产 地：日本
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EDA407电子元器件水份分析仪
电子元器件水汽分析仪EDA407,● 分析气体：水汽、H2、He、CH4、NH3、 N2、O2、Ar、CO2、氟碳化合物等气体● 质量数范围: 1-512amu ● 检测极限: <100PPM(水汽) < 10PPM(其他气体）
价 格：￥电议型 号：EDA407产 地：欧洲
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HMS-5000/HMS-5500全自动变温霍尔效应测试仪
型号：HMS-5000 / HMS-5500$r$n生产商：ECOPIA Corp.$r$n(80K-350K，常温-773K)
价 格：￥电议型 号：HMS-5000/HMS-5500产 地：其它
