Sentech(第1页)_深圳市蓝星宇电子科技有限公司

OCS201C，OCS202C，OCS203C，OCS205C，OCS207C德国Sentech 集成等离子刻蚀和沉积的多腔系统

德国Sentech 集成等离子刻蚀和沉积的多腔系统，包括等离子刻蚀和/或沉积腔体、传送腔室、预真空室或片盒站。传送腔室包括传送机械手臂，可适用于三至六个端口。可以使用多达两个片盒站来增加产量。传送腔室可以配备多种选择。

价格：￥电议型号：OCS201C，OCS202C，OCS203C，OCS205C，OCS207C产地：欧洲
ALD德国Sentech 实时监测仪

SENTECH ALD实时监测仪是一种新型的光学诊断工具，是心灵超高分辨率的单一ALD循环。在不破坏真空的条件下分析薄膜特性(生长速率，厚度，折射率)，在短时间内开发新工艺、实时研究ALD循环中的反应机理是SENTECH ALD实时监测仪的主要应用。

价格：￥电议型号：ALD产地：欧洲
MDPmap德国Sentech光伏测量仪

德国Sentech光伏测量仪MDPmap，灵活的自动扫描系统，是专为半导体晶片或部分工艺过的晶片的多功能、非接触和少子寿命测量而设计的。MDPmap能够连续地改变激发脉冲宽度，从非常短的脉冲(100ns)到稳态测量(几ms)，研究不同深度的缺陷动力学和少子寿命特性。直观的绘图软件适用于有效的常规测量以及复杂的研发应用。

价格：￥电议型号：MDPmap产地：欧洲
Sentech 集成等离子刻蚀和沉积的多腔系统

$r$nSentech 集成等离子刻蚀和沉积的多腔系统$r$nSentech 集成等离子刻蚀和沉积的多腔系统，SENTECH多腔系统包括等离子刻蚀和/或沉积腔体、传送腔室、预真空室或片盒站。传送腔室包括传送机械手臂，可适用于三至六个端口。可以使用多达两个片盒站来增加产量。传送腔室可以配备多种选择。$r$n

价格：￥电议型号：产地：欧洲
MDPspot德国Sentech光伏测量仪器

$r$n德国Sentech光伏测量仪器MDPspot，具有成本效益的台式少子寿命测试仪MDPspot可用于表征晶片或面。它为少子寿命测量提供了一个测量点。$r$n $r$n低成本桌面式寿命测量系统，用于手动操作表征不同制备阶段的各种不同硅样品。可选的手动操作Z轴用于厚度多达156毫米的样品。标准软件可输出可视化的测量结果。$r$n $r$n

价格：￥电议型号：MDPspot产地：欧洲
SENperc PV德国Sentech光伏测量仪

SENperc PV 是PERC电池制造质量控制的创新解决方案。SENperc PV 测量Al2O3/SiNx堆叠层和用于钝化PERC电池的单层膜。监测沉积过程的稳定性。由此，可以优化维护时间间隔。$r$n

价格：￥电议型号：SENperc PV产地：欧洲
MDPpro德国Sentech激动扫描系统

$r$n德国Sentech激动扫描系统MDPpro,少子寿命测量仪器的特征在于以1mm分辨率对500mm的一个面在不到4分钟内完成扫描。电阻率和少子寿命的测量完全无触摸。利用微波检测光电导率(MDP)同时测量少子寿命、光电导率、电阻率和p/n导电类型的变化。$r$n

价格：￥电议型号：MDPpro产地：欧洲
SI 500德国 Sentech 等离子体 ICP 干法刻蚀机

SENTECH SI 500 电感耦合等离子体ICP干法刻蚀系统，$r$n感应耦合等离子刻蚀机台，低损伤纳米结构刻蚀，高速率刻蚀，内置ICP等离子源，动态温控。

价格：￥电议型号：SI 500产地：欧洲
ICP-RIE SI 500德国 Sentech 等离子刻蚀机

德国Sentech ICP-RIE SI 500 等离子刻蚀机，代表了电感耦合等离子体(ICP)加工在研究和生产上的先优势。它以PTSA等离子体源、动态控温基片电、全控真空系统、先进的Sentech 控制软件为基础，采用远程现场总线技术，为操作SI 500提供了非常人性化的通用用户界面。灵活性和模块化是SI 500的设计特点。

价格：￥电议型号：ICP-RIE SI 500产地：欧洲
RIE SI591德国 Sentech 反应离子刻蚀机

ENTECH RIE SI591 平板电容式反应离子刻蚀机，兼容多种氯基或氟基刻蚀工艺；小型化和高度模块化；SENTECH控制软件

价格：￥电议型号：RIE SI591产地：欧洲
Etchlab 200 RIE德国 Sentech 等离子刻蚀机

Etchlab 200 RIE等离子体蚀刻机是一种将RIE平行板电设计的优点与直接负载的低成本设计相结合的直接负载等离子体蚀刻机系列。Etchlab 200具有简单快速的样品加载功能，从零件到200a€‰mm或300a€‰mm直径的晶圆片直接加载到电或载体上。$r$n

价格：￥电议型号：Etchlab 200 RIE产地：欧洲
Etchlab200德国 Sentech 等离子刻蚀机

SENTECH Etchlab200 经济型反应离子刻蚀机(可升级)，包括抽速更大的真空单元、预真空室及附加气路等。$r$n

价格：￥电议型号：Etchlab200产地：欧洲
Depolab 200德国 Sentech 等离子沉积机

PECVD Depolab 200 等离子体沉积机,将平行板等离子体源设计与直接负载相结合,可以升为更大的抽油机、低频电源和额外的燃气管道。

价格：￥电议型号：Depolab 200产地：欧洲
SI 500 PPD德国 Sentech 等离子沉积机

德国Sentech PECVD SI 500 PPD等离子沉积机,。它是基于平面电容耦合等离子体源，真空加载锁定，$r$n控温基片电，可选配低频混频，全控无油真空系统采用先进的森泰克控制软件，采用远程现场总线技术，具有非常友好的通用用户界面用于操作SI 500 PPD的用户界面。

价格：￥电议型号：SI 500 PPD产地：欧洲
SI 500 D德国 Sentech 等离子沉积机

德国 Sentech SI 500 D 等离子沉积机，具有特殊的等离子体特性，如高密度、低离子能量和介质膜的低压沉积。

价格：￥电议型号：SI 500 D产地：欧洲
PE-ALD德国 Sentech 等离子体增强--原子层沉积系统

德国 Sentech PE-ALD 等离子体增强--原子层沉积系统，是在3D结构上逐层沉积超薄薄膜的工艺方法。薄膜厚度和特性的精确控制通过在工艺循环过程中在真空腔室分步加入置物实现。等离子增强原子层沉积（PEALD）是用等离子化的气态原子替代水作为氧化物来增强ALD性能的先进方法。

价格：￥电议型号：PE-ALD产地：欧洲

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