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半导体辅助工艺/光刻胶
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已选条件
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URE-2000/35AL 型紫外单面光刻机
URE-2000/35AL 型紫外单面光刻机,曝光面积：150mm×150mm；分辨力：1.0μm（365nm 波长）,对准精度：≤±0.8μm
价 格：￥电议型 号：URE-2000/35AL 型产 地：中国大陆
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URE-2000S/25A紫外双面光刻机型紫外单面光刻机
URE-2000S/25A 型紫外双面光刻机，曝光面积：6 英寸，分辨力：1 μm
价 格：￥电议型 号：URE-2000S/25A产 地：中国大陆
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URE-2000/25型紫外单面光刻机
URE-2000/25 型紫外单面光刻机，曝光面积：4 英寸,分辨力：1 μm（胶厚 2 μm的正胶）,对准精度：± 0.8μm
价 格：￥电议型 号：URE-2000/25产 地：中国大陆
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URE-2000/17型紫外单面光刻机（台式）
URE-2000/17 型紫外单面光刻机（台式）,曝光面积：4 英寸,分辨力：1.5μm（胶厚 2 m 的正胶）,对准精度：±1μm$r$n$r$n
价 格：￥电议型 号：URE-2000/17产 地：中国大陆
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URE-2000/35L紫外单面光刻机
URE-2000/35L 型紫外单面光刻机,曝光面积：100mm×100mm；分辨力：1.0 μm（胶厚 2.0 μm 的正胶，365nm 波长）
价 格：￥电议型 号：URE-2000/35L产 地：中国大陆
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URE-2000/35紫外单面光刻机
URE-2000/35 型紫外单面光刻机,非常适合工厂（效率高，操作傻瓜型，自动化程度高）和高校教学科研（可靠性好，演示方便）采用自动找平，具备真空接触曝光、硬接触曝、压力接触曝以及接近式曝光四种功能，自动分离对准间隙和消除曝光间隙，采用 350W 进口（德国）直流汞灯，可调节光的能量密度。设备外形美观精制，性能非常可靠，自动化程度很高，操作十分方便。
价 格：￥电议型 号：URE-2000/35产 地：中国大陆
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URE-2000/35A紫外单面光刻机
URE-2000/35A 型紫外单面光刻机,,非常适合工厂（效率高，操作傻瓜型，全自动）和高校教学科研（可靠性好，演示方便）采用自动找平，具备真空接触曝光、硬接触曝、压力接触曝以及接近式曝光四种功能，自动分离对准间隙和消除曝光间隙，采用 350W 进口（德国）直流汞灯，可调节光的能量密度。设备外形美观精制，性能非常可靠，自动化程度很高，操作十分方便。
价 格：￥电议型 号：URE-2000/35A产 地：中国大陆
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URE-2000/35紫外单面光刻机
URE-2000/35 型紫外单面光刻机，中科院设计生产，曝光面积：4 英寸 ，非常适合工厂（效率高，操作傻瓜型，自动化程度高）和高校教学科研 $r$n（可靠性好，演示方便） 。
价 格：￥电议型 号：URE-2000/35产 地：中国大陆
