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深圳市蓝星宇电子科技有限公司 主营产品:光刻机,真空镀膜机,离子刻蚀机,,半导体辅助材料,半导体微纳检测仪器,太阳能吸收率发射击队率检测仪,,实验检测仪器设备,紫外线UV光清洗机UV灯.

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参观次数:751418

手机网站:http://m.yituig.com/c143096/

商铺地址:http://www.lxyee.net

光刻机&3D打印机

镀膜沉积机

离子刻蚀与沉积

匀胶涂覆机

半导体辅助设备

半导体微纳检测仪器

实验检测仪器

紫外清洗等离子清洗机

太阳能检测仪

德国YXLON 检测仪

德国Netzsch

Rion 液体光学颗粒度仪

液体光学颗粒度仪

奥地利EVG光刻杨键合机压印机

尼康Nikon光刻机

德国Lecia 切片掩膜一体机

日本Elionix

化学开封机 / 激光开封机

光刻胶/硅片

半导体辅助工艺/光刻胶

日立Hitachi

UV灯

已选条件

  • URE-2000S/35L(B)型双面光刻机

    URE-2000S/35L(B)型双面光刻机, 曝光面积:4 英寸, 正面对准采用双目双视场对准显微镜:既可通过目镜目视对准,也可通过 CCD+显示器对准,光学合像,光学 大倍数 400 倍,光学+电子放大 800 倍

    价 格:¥电议型 号:URE-2000S/35L(B)型产 地:中国大陆

  • URE-2000S/35L(A)型紫外双面光刻机

    URE-2000S/35L(A)型紫外双面光刻机,曝光面积:6 英寸,正面对准采用双目双视场对准显微镜:既可通过目镜目视对准,也可通过 CCD+显示器对准,光学合像,光学大倍数 400 倍,光学+电子放大 800 倍

    价 格:¥电议型 号:URE-2000S/35L(A)型产 地:中国大陆

  • URE-2000S/25S 型双面光刻机

    URE-2000S/25S 型双面光刻机,曝光面积:4 英寸(或 6 英寸),正面对准采用双目双视场对准显微镜:既可通过目镜目视对准,也可通过 CCD+显示器对准,光学合像,光学大倍数 400 倍,光学+电子放大 800 倍

    价 格:¥电议型 号:URE-2000S/25S 型产 地:中国大陆

  • URE-2000S/A8 型紫外双面光刻机

    URE-2000S/A8 型紫外双面光刻机, 曝光面积:8 英寸, 曝光波长:365nm: 15mW/cm,405nm:15-30mW/cm2, 对准精度:±2 μm (双面,片厚 0.8mm)±0.8 μm (单面)

    价 格:¥电议型 号:URE-2000S/A8 型产 地:中国大陆

  • URE-2000S/B型紫外双面光刻机

    URE-2000S/B 型紫外双面光刻机,曝光面积:6 英寸,对准精度:± 2μm (双面,片厚 0.8mm),± 0.8μm (单面)

    价 格:¥电议型 号:URE-2000S/B型产 地:中国大陆

  • URE-2000S/25 型紫外双面光刻机

    URE-2000S/25 型紫外双面光刻机,曝光面积:4 英寸,正面对准采用双目双视场对准显微镜:既可通过目镜目视对准,也可通过 CCD+显示器对准,光学合像,光学大倍数 400 倍,光学+电子放大 800 倍

    价 格:¥电议型 号:URE-2000S/25 型产 地:中国大陆

  • URE-2000S/25A紫外双面光刻机型紫外单面光刻机

    URE-2000S/25A 型紫外双面光刻机,曝光面积:6 英寸,分辨力:1 μm

    价 格:¥电议型 号:URE-2000S/25A产 地:中国大陆

  • URE-2000S 系列双面光刻机紫外双面光刻机

    URE-2000S 系列双面光刻机,对准精度:±2 mm(双面,片厚 0.8mm),±0.8mm(单面)

    价 格:¥电议型 号:URE-2000S 系列双面光刻机产 地:中国大陆

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