依托垄断性利技术，百及纳米推出先的超高精度大面积写场电子束光刻机 P21 系列。 百及纳米次开发了新一代电子束光刻机的电子束闭环控制新原理。百及超高精度电子束光刻机 P21 是款新一代电子束光刻机的代表，在电子束光刻机制造商德国 Raith 公司的成熟机型上 升而成。该系列主要包括 P21-2，P21-4 和 P21-6 三个型号，区别主要在于样品尺寸（2，4，6 英寸晶圆）及扩展使用功能。P21 不仅完整地保留了原电子束光刻机的整体功能，且集多项先的关 键指标于一身，包括：

 • 上次开发的新颖电子束闭环控制系统，能够实现电子束的原位检测与校正; 

 • 先的写场拼接精度≤2 nm; 

 • 电子束光刻的长期稳定性。精确校正电子束的空间漂移，将其位置稳定性提高到≤10 nm/h； 有利于通过提高电子束光刻时间实现大尺寸图形的曝光需求。 

百及纳米的 P21 系列以常规电子束光刻机为载体，通过独家利技术对其进行功能及性能指标的大幅提升。P21 光刻机组件均为德国原装制造，以高品质、高性能满足客户的科研高端需求，实现新 一代超高精度电子束光刻功能。