美Nano-master 大基片清洗机的技术原理#技术报道 http://www.app17.com/c143096/products/d11786823.html

美Nano-master 大基片清洗机 Large Substrate Cleaning :LSC-4000

NANO-MASTER大基片清洗机（LSC）是一款独立式清洗机，使用计算机控制，大可支持外径21”的基片。
通过方面板上的触摸屏和LabView用户界面，与SWC系统相比可以提供更强大的控制，并允许用户控制访问等，比如操作者、工艺工程师和维护工程师。跟SWC一样，LSC集成了同样的利技术的兆声技术和化学试剂分布。
 
LabView控制和更大工艺腔体的组合支持额外的选配项，诸如臭氧化去离子水、高压去离子水、带保护膜的分划板清洗、以及白骨化清洗。 单晶圆和Cassette-to-Cassette自动上下片可选。其中可以通过定制托盘一次放入多片小片实现批处理。

特点：

** 大可支持21”外径，15”x15”方片和450mm的晶圆
** 无损兆声清洗
** 不同转速的PVA刷子
** 带回吸阀的化学试剂分布
** 双排放口用于酸和试剂的分开排放
** 全自动计算机控制，菜单驱动
** 基于LabVIEW的触摸屏友好用户界面
** 手动上下片
** 安全联锁和报警
** 32”x28”的占地面积

选配：

** 带保护膜的分划板清洗
** 双面刷子和兆声清洗
** 化学试剂传输模块
** 化学试剂瓶的泄漏检测传感器
** 白骨化清洗
** 臭氧化去离子水(20ppm O3)
** 高压去离子水
** 加热的去离子水
** 氮离子发生器
** 带去离子水电阻率监控的CO2注入
** FM4910防火灾材料
** 机械手上下片，带SMIF传送盒

应用：

** 硅晶圆及蓝宝石晶圆清洗
** 晶圆框架上的切割芯片清洗
** 显示面板清洗
** ITO涂覆的显示屏
** 带图案或不带图案的掩模板清洗
** 掩模板光板清洗
** 接触掩模版清洗

原创作者：深圳市蓝星宇电子科技有限公司