推送：美NANO-MASTER  SWC单晶圆清洗系统的产品研发#技术新闻 http://www.app17.com/c143096/products/d11786800.html

美NANO-MASTER  SWC单晶圆清洗系统

SWC-3000 台式单晶圆/掩膜版清洗系统

SWC-4000 立柜式单晶圆/掩膜版清洗系统

SWC-5000 带25片Cassette 机械手自动清洗

NANO-MASTER单晶圆清洗机（SWC）聚焦于提供大可能性的清洗能力，同时维持可承担的拥有成本。标准系统配套有各种清洗能力，化学试剂清洗、刷子清洗、高转速旋转甩干带红外灯烘干和N2吹扫。 利技术的兆声喷嘴运动确保兆声能量的均匀传送；因此，在晶圆表面的任何点，被传送的能量可以保持在损伤阈值以内。

特点：

** 12" 外径圆片 7" x 7"方片
** 台式系统/独立式系统（SWC-4000）
** 文丘里动力真空
** 无损兆声
** 独立的化学试剂分布
** 带热氮的旋转甩干
** 微处理器控制，触摸屏编程和调用程序
** 化学试剂分布单元/4个3.8L的HDPE容器(SWC-4000)
** 双排放口分别用于酸和溶剂（SWC-4000）
** 回吸阀防止试剂滴漏（SWC-4000）
** 安全联锁
** 占地面积19”x26”

选配：

** PVA刷子清洗（100RPM）
** CMP后刷子清洗（转速大到400RPM）
** 氮离子发生器
** 去离子水电阻率监控的CO2注入
** FM4910防火灾材料
** 背面去离子水清洗和干燥（SWC-4000）
** 嵌入式加热器用于去离子水或化学试剂（SWC-4000）
** 用于化学试剂盒DIW泄露检测的传感器（SWC-4000）

应用：

** 有图案或无图案掩模板及晶圆
** Ge，GaAs和InP晶圆清洗
** CMP后晶圆清洗
** 晶圆框架上的切割芯片清洗
** 等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗
** 掩模版白板或接触掩模板清洗
** X光和远紫外掩模板清洗
** 光学镜头清洗
** ITO涂覆的显示面板清洗
** 兆声辅助的剥离工艺

原创作者：深圳市蓝星宇电子科技有限公司