企业档案
会员类型:初级版会员
已获得易推广信誉 等级评定
(0 -40)基础信誉积累,可浏览访问
(41-90)良好信誉积累,可接洽商谈
(91+ )优质信誉积累,可持续信赖
易推广初级版会员:6年
最后认证时间:
注册号: 【已认证】
法人代表: 【已认证】
企业类型:代理商 【已认证】
注册资金:人民币1080万 【已认证】
产品数:471
参观次数:747867
手机网站:http://m.yituig.com/c143096/
商铺地址:http://www.lxyee.net
光刻机&3D打印机
- 德国Nnaoscrib
- 德国Heidelberg
- 德国Zeiss
- 德国Eulitha
- 瑞士Swisslitho AG
- 瑞典Mycronic
- 英国Durham
- 英国Nanobean
- NanoArch
- 德国SUSS
- 德国ParcanNano 百及纳米针尖电子束光刻系统
- 英国AML晶圆键合机
- 瑞士 NnaoFrazor 光刻机
- 激光微加工设备
- 奥地利EVG紫外纳米压印系统
- 尼康Nikon光刻机
- Elinoix 电子束光刻机
- 纳米压印机
- 中科院
- 美国Coherrent
- 俄罗斯Optosystem
- China
- 美国OAI
- 美国Photonics
- 美国Sonoplot
镀膜沉积机
- 德国Iplas
- 德国Sentech
- 英国HHV
- 英国Oxford
- 英国Denton
- 芬兰Picosun
- 美国Nano-master
- 法国Iplas
- 美国TED Pella
- 荷兰 TSST
- 美国Denton Vacuum
- 英国Quorum涡轮分子泵抽真空镀膜仪
- 德国MBE-Komponenten 分子束外延系统
- 美国Neocera
- 日立Hitachi
- 英国Oxford Vacuum
- 法国Plassys
- 美Arradiance
离子刻蚀与沉积
匀胶涂覆机
半导体辅助设备
半导体微纳检测仪器
- 德国Zeiss扫描电镜
- 德国KSI超声波扫描显微镜
- 德国Mecwins扫描式激光分析仪
- 美国Nanovea三维表面形貌仪
- 德国Sentech薄膜测量仪/光伏测量仪
- 德国Klocke Nanotech 3D纳米级三维测量仪
- 德国YXLON 高分辨率X射线检测设备
- 瑞士Nanosurf 原子力显微镜
- 日本Ribm原子力显微镜
- 日本AND粒子计数器
- 日本JEOL显微镜
- 德国Bruker光谱仪/显微镜/台阶仪
- 韩国Ecopia美国MMR霍尔效应测试仪
- 探针台
- 美国Sonix超声波扫描显微镜
- 美Royce拉力性能测试及芯片拾取放置
- 美国Filmetrics膜厚测量仪
- 美国RTI自动特性图示仪
- 美国TEX Keithley半导体参数分析仪
- 美国MMR霍尔效应测量仪
- 日本 IAS 化学检测分析系统
- X 射线多晶衍射仪
- XRD X射线衍射仪
- FEI扫描电镜Thermo光谱仪
- 纳米压痕仪
- 少子寿命测试仪
- 德国neaspec纳米级红外光谱仪
实验检测仪器
- 电子元器件水份分析仪
- 德YXLON CT检测
- ADLEMA 检漏机
- Rion 液体光学颗粒度仪
- 粒子碰撞噪声检测仪
- 德国Attocube 显微镜
- LakeShore 振动样品磁强计
- 英Glovebox 手套箱
- 美OAI 光功率计
- 智能型氦液化器
- 美Microsense 磁克尔效应测量系统
- nanosc 高精度铁磁共振仪
- 法Alyxan 高分辨质子传递反应质谱
- 振动样品磁强计
- 超精细多功能无液氦低温光学恒温器
- 日本Tohuko 超高灵敏度材料氧化分析仪
- 纳米压痕仪
- Thorlabs傅立叶红外光谱仪
- 光功率计
- 光学式坐标测量仪
- 氟油检漏仪
- 接触角测量仪
- 美Associated 耐压测试仪
- 德国Moeller 测角仪
- 德国耐驰Netzsch
- Bruker 手持拉曼光谱仪
- Super-ME-II多铁性磁电测量系统
- 德Attocube低温强磁场原子力/磁力显微镜
- OptoCool 超精准全开放强磁场低温光学研究平台
- Neaspec 德国真空太赫兹近场光学显微镜
- 纽迈核磁共振分业析
- Oxford pulsar 实验室智能核磁共振波谱仪
- DynaCool 全新一代完全无液氦综合物性测量系统
- Anasazi 科研用小型无液氦核磁共振波谱仪
- MPMS3最新一代磁学测量系统
- PPMS 综合物性测量系统
紫外清洗等离子清洗机
- 美Harrich 等离子清洗机
- 德Diener 等离子清洗机
- 德PVA Tepla 微波等离子清洗机
- 美Nano-master 晶圆清洗机
- 美国Novascon UV清洗机
- 美国UVOCS UV清洗机
- 美国Jelight UV清洗机
- 日本SEN 紫外UV清洗机UV灯
- 美国Uvitron全功能紫外面光源
- 蓝星宇UV清洗机
太阳能检测仪
德国YXLON 检测仪
德国Netzsch
Rion 液体光学颗粒度仪
液体光学颗粒度仪
奥地利EVG光刻杨键合机压印机
尼康Nikon光刻机
德国Lecia 切片掩膜一体机
日本Elionix
化学开封机 / 激光开封机
光刻胶/硅片
半导体辅助工艺/光刻胶
日立Hitachi
UV灯
技术文章
德国Leica 全新精研一体机实验步骤有哪些?
点击次数:57 发布时间:2024/11/13 13:50:13
德国Leica 全新精研一体机实验步骤有哪些?
http://www.app17.com/c143096/products/d10850924.html
德国Leica EM TXP全新精研一体机
全新的精研一体机LEICA EM TXP
是一款独特的可对目标区域进行精确定位的表面处理工具,特别适合于SEM,TEM及LM观察之对样品进行切割、抛光等系列处理。它尤其适合于制备高难度样品,如需要对目标精细定位或需对肉眼难以观察的微小目标进行定点处理。有了 Leica EM TXP,这些工作就可轻松完成。在 Leica EM TXP 之,针对目标区域进行定点切割,研磨或抛光等通常是一项耗时耗力,很困难的工作,因为目标区域易丢失或者由于目标尺寸太小而难以处理。使用 Leica
EM TXP ,此类样品都可被轻易处理完成。另外,借助其多功能的特点,Leica EM TXP 也是一款可为离子束研磨技术和超薄切片技术服务的高效的制样工具。
与观察体系合为一体
在显微镜下观察整个样品处理过程和目标区域将样品固定在样品悬臂上,在样品处理过程中,通过立体显微镜可对样品进行实时观察,观察角度0°至60°可调,或者调至 -30°,则可通过目镜标尺进行距离测量。Leica EMTXP 还带有明亮的环形LED光源照明,以便获得佳视觉观察效果。
> 对微小目标区域进行精确定位和样品制备
>通过立体显微镜实现原位观察
>多功能化机械处理
>自动化样品处理过程控制
>可获得平如镜面的抛光效果
>LED 环形光源亮度可调,4分割区段可选
< < < 看清细节
为微尺度制样而生
对毫米和微米尺度的微小目标进行定位、切割、研磨、抛光是一项具有挑战性的工作,主要困难来自:
> 目标太小,不容易观察
> 精确目标定位,或对目标进行角度校准很困难
> 研磨、抛光到指定目标位置常需花费大量人力和时间
> 微小目标易丢失
> 样品尺寸小,难以操作,往往不得不镶嵌包埋
一体化显微观察及成像系统
Leica M80 立体显微镜
> 平行光路设计:通过中央主物镜形成平行光路,焦平面一致
> 高倍分辨率:所有变倍比下都有绝佳的图像质量和稳定的光强
> 人体工学设计:使用舒适度佳,无肌肉紧张感和疲劳感
Leica IC80 HD 高清摄像头*
> 无缝设计:安装在光学头和双目筒之间,无需添加显像管或光电管
> 高品质图像:与显微镜共轴光路确保图像质量及获得无反光图像
> 提供动态高清图像,连接或断开计算机均可使用
4 分割区段亮度可调 LED 环形光源
> 不同角度照明显露样品微小细节
Leica Application Suite (LAS 图像测量与分析软件)*
> 实现数字化成像
> 可对图像进行处理和分析
多种方式制备处理样品,样品无需转移,只需切换工具
不需要来回转移样品,只需要简单地更换处理样品的工就可完成样品处理过程,并且样品处理全过程都可通过显微镜进行实时观察。出于安全考虑,工具和样品所在的工作室带有一个透明的安全罩,可避免在样品处理过程中操作者不小心触碰到运转部件,又可防止碎屑飞溅。
LEICA EM TXP可对样品进行如下处理:
>铣削
>切割
>研磨
>抛光
>冲钻
灵活的工具和载台,应对各类样品
各类刀锯及抛光工具:
A. 研磨抛光片
B. 尼龙布,用于精细抛光
C. 金刚石锯片
D. CBN锯片,用于切割钢铁材料
E. Φ3mm空心钻,用于制备 TEM Φ3mm圆薄片
F. 铣刀,用于铣削样品
自动化样品处理过程控制
让徕卡EM TXP来工作
EM TXP的自动化样品处理过程控制机制,可以帮助您从常规繁重的样品制备工作中解脱出来:
精确的目标定位
> 在显微镜辅助观察下,通过精密移动工具来帮助你实现精确的目标定位
> 如移动锯片到接近目标位置进行切割;然后不用取下样品,直接将锯片更换成研磨片对目标位置进行快速研磨;当快接近目标位置,可以采用Count down倒计数功能,自动研磨指定厚度(∑ um),或后采用Count down倒计时功能,自动抛光
> 得益于精密机械控制部件,样品加工工具步进精度小可达0.5um
精确的角度校准
> 在显微镜辅助观察下,通过角度校准适配器帮助你实现对样品角度的微调
> 角度校准适配器固定在样品夹具和样品悬臂之间,可以实现水平方向和垂直方向分别±5°角度微调
LEICA EM TXP & EM TIC 3X
LEICA EM TIC 3X
是一款独特的三离子束切割仪,可对软硬复合型或应力敏感型材料样品进行离子束轰击,获得样品截面,便于SEM观察样品内部结构信息及分析。
EM TXP可为其做样品制备:
> 样品切割、粗研磨
> 样品修块
> 对TIC 3X挡板进行研磨抛光,使挡板得以重复利用
LEICA EM TXP & EM UC7
LEICA EM UC7
是徕卡超薄切片机,利用钻石刀对样品进行超薄切片,可获得nm厚度超薄切片(用于TEM观察),或15um以下厚度半薄切片(用于LM观察),或切割获得样品截面(用于LM或SEM观察)。
所有样品在超薄切片都需进行样品修块。样品截面的大小和形状对后续切片影响很大。硬度较低的样品可以使用徕卡EM TRIM2修块机,或EM RAPID高修块机,或者用EM TXP精研一体机进行修块。而坚硬或脆性材料必须使用EM TXP,利用切割/研磨/抛光步骤进行样品修块处理。修块后完美的样品块要具有平整的表面和锐利的边缘,这对于坚硬或脆性样品获得高质量超薄切片非常重要。
Ernst Leitz 于 1907 年发表了“与用户合作,使用户受益”的声明,描述了徕卡显微系统与终用户的通力协作以及不断创新的驱动力。我们已经开发了五个品牌价值来实现这一传统:Pioneering、High-end Quality、Team Spirit、Dedication to Science 和 Continuous Improvement。对我们来说,实现这些价值就意味着:Living up to Life。
原创作者:深圳市蓝星宇电子科技有限公司