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美国Neocera 脉冲激光沉积系统

价格:¥电议

品牌名称:$brandModel.Title(进口品牌)型号:Pioneer 180-2-PLD 原产地:美洲 发布时间:2022/3/3 19:01:14更新时间:2024/12/3 9:21:47

产品摘要:美国Neocera 脉冲激光沉积系统Pioneer 180-2-PLD,一种用途广泛的、用于薄膜沉积以及纳米结构和纳米粒子合成的方法

产品完善度: 访问次数:183

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详细内容

美国Neocera PLD 脉冲激光沉积系统 Pulsed Laser Deposition System :Pioneer 180-2-PLD

 

高性能的离子辅助沉积系统 离子辅助沉积已经成为在无规取向的衬底或非晶衬底上沉积双轴结构薄膜的一种重要技术。Neocera 开发了离子辅助的 PLD 系统,该系统将 PLD 在沉积复杂材料方面的优势与 IBAD 能力结合在一起。


 
    
。Neocera 在 PLD 设备与工艺开发方面具有不可超越的经验。
• Pioneer 系列 PLD 系统是全球研发域为广泛使用的商业化系统。
• Neocera不仅可以为客户提供基本的PLD系统,还可以提供完善的PLD解决方案。
• PLD 实验室一站式方案。
                                                                       
脉冲激光沉积系统(PLD) 一种用途广泛的、用于薄膜沉积以及纳米结构和纳米粒子合成的方法

 
PLD 是一种复杂材料沉积的有效方法 脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition)是一种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材,生成与靶材组分相同 的薄膜。PLD 的独特之处是能量源(脉冲激光)位于真空腔室的外面。这样,在材料合成时,工作气压的动态范围很宽, 达到 10-10 Torr ~ 100 Torr。通过控制镀膜压力和温度,可以合成一系列具有独特功能的纳米结构和纳米颗粒。另外,PLD 是一种 “ 数字 ” 技术,在纳米尺度上进行工艺控制(埃 /pulse)。

 
Neocera Pioneer 系列 PLD 系统 - 基于卓越经验的创新设计

 
Neocera 利用 PLD 开展了深入广泛的研究,建立了获得佳薄膜质量的临界参数,特别适用于沉积复杂氧化物薄膜。这些 思考已经应用于 Pioneer 系统的设计之中。

 
• 很多复杂氧化物薄膜在相对高的氧压(>100 Torr)下冷却可获得更高的质量。所有 Pioneer 系统都具备此功能(气压 范围可从额定初始压强到大气压)。这也有益于生成纳米粒子。
• Pioneer PLD系统的激光束入射角为45°,保持了激光密度在靶材上的大均匀性,同时避免使用复杂而昂贵的光学元件。 更小的入射角会拉长靶材上的激光斑点,导致密度均匀性的损失。
• 为了消除油的回流对薄膜质量的影响,所有 Pioneer 系统的标准配置都采用无油泵系统。
• 我们的研究表明:靶材和衬底的距离是获得佳薄膜质量的关键参数。Pioneer 系统采用可变的靶材和衬底的距离,对沉积条件进行大的控制。

 
• 独立的一站式方案 PLD 系统。
• 用于沉积外延薄膜、多层异质结构。
• 高温衬底加热器,具有氧气兼容性,可用于氧化物薄膜的沉积。
• 自动多靶材旋转器,可实现超晶格的沉积和 CCS(连续成分生长)功能。
• 升:离子辅助 PLD、组合优化 PLD、靶材 - 衬底 Load-Lock。
• 额外的沉积源:射频 / 直流溅射、直流离子枪。
• 原位诊断:高压 RHEED、小角 X 射线谱仪( LAXS )和离子能谱仪(IES)。

 

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