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深圳市蓝星宇电子科技有限公司 主营产品:光刻机,真空镀膜机,离子刻蚀机,,半导体辅助材料,半导体微纳检测仪器,太阳能吸收率发射击队率检测仪,,实验检测仪器设备,紫外线UV光清洗机UV灯.

当前位置: 易推广 > 光学仪器 > 光学应用 > 光学平台 > 深圳市蓝星宇电子科技有限公司 > 产品展示 > 光刻胶/硅片 > 硅片 > 氮化镓支撑片,晶片,硅片

氮化镓支撑片,晶片,硅片

价格:¥电议

品牌名称:$brandModel.Title(进口品牌)型号:Pioneer 180-2-PLD 原产地:中国大陆 发布时间:2022/3/6 11:02:01更新时间:2024/11/27 1:31:21

产品摘要:2英寸氮化镓自支撑晶片, 10×10.5mm²氮化镓自支撑晶片, 非性/半性氮化镓自支撑晶片, 4英寸氮化镓厚膜晶片, 2英寸氮化铝厚膜晶片, 2英寸氮化镓厚膜晶片

产品完善度: 访问次数:201

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手机网站:http://m.yituig.com/c143096/

商铺地址:http://www.lxyee.net

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半导体微纳检测仪器

实验检测仪器

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液体光学颗粒度仪

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化学开封机 / 激光开封机

光刻胶/硅片

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日立Hitachi

UV灯

详细内容

4英寸氮化镓厚膜晶片

尺寸: φ100±0.1mm

厚度: 4μm、20μm

电阻率(300K): N型(非掺杂)<0.5Ω·cm

4 "gallium nitride thick film wafer  

Size: 100 + / - 0.1 mm  

Thickness: 4μm, 20μm  

Resistivity (300K) : N type (undoped) < 0.5 ω ·cm  


 


 

2英寸氮化镓厚膜晶片

尺寸: φ50.8±0.1mm

厚度: 4μm、20μm

电阻率(300K): N型(非掺杂)<0.5Ω·cm

2 "gallium nitride thick film wafer  

Size: phi 50.8 + / - 0.1 mm  

Thickness: 4μm, 20μm  

Resistivity (300K) : N type (undoped) < 0.5 ω ·cm  


 


 

2英寸氮化铝厚膜晶片

尺寸: φ50.8±0.1mm

厚度: 4±1.5μm

导电类型:Semi-Insulating

2 "aluminum nitride thick film wafer  

Size: phi 50.8 + / - 0.1 mm  

Thickness: 4 + / - 1.5 microns  


 

Conduction type: semi-insulating  

Resistivity (300K) : N type (undoped) < 0.5 ω ·cm  


 

2英寸氮化镓自支撑晶片

尺寸: φ50.8±1mm

厚度: 350±25μm

电阻率(300K): N型(非掺杂)<0.1Ω·cm

2-inch gallium nitride self-supporting chip  

Size: phi 50.8 + / - 1 mm  

Thickness: 350 + 25 microns  

Resistivity (300K) : N type (undoped) < 0.1 ω ·cm  


 

10×10.5mm²氮化镓自支撑晶片

尺寸: 10.0×10.5mm²

厚度: 350±25μm

电阻率(300K): N型(非掺杂)<0.1Ω·cm

10×10.5mm² gallium nitride self-supporting wafer

Size: 10.0 x 10.5 mm squared

Thickness: 350 + 25 microns

Resistivity (300K) : N type (undoped) < 0.1 ω ·cm


 

非性/半性氮化镓自支撑晶片

尺寸: (5.0~10.0)×10.0/20.0mm²

厚度: 350±25μm

电阻率(300K): N型(非掺杂)<0.1Ω·cm

Non-polar/semi-polar gallium nitride self-supported wafers

Size: (5.0~10.0) ×10.0/20.0mm²

Thickness: 350 + 25 microns

Resistivity (300K) : N type (undoped) < 0.1 ω ·cm

热门标签:氮化镓晶片 硅片 晶圆 

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