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微波等离子化学气相沉积系统
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光刻机&3D打印机
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日立Hitachi
UV灯
详细内容
德国IPLAS MPCVD CYRANNUS® 利技术,微波等离子化学气相沉积
第四代半导体,热沉器件,光学窗口
Iplas公司与1997 年在德国科隆由Hildegard Sung-Spitzl博士及其丈夫Ralf Spitzl博士建立。两位创世人在基础物理和应用物理域具有渊博的知识,并在等离子技术域具有深厚的研究开发经验。
Ralf Spitzl 博士至已有逾三十多年的等离子物理研究经历,Ralf Spitzl 博士于 1996 年发明了CYRANNUS®等离子源,并与 1998 年取得了CYRANNUS®的第 一个 利。2003 年 Iplas 制造了16" CYRANNUS® I 等离子源,是上大的可在大气压下运行的商用等离子源,同年因其CYRANNUS® 技术的卓越性能,iplas 和美国阿贡国家实验室共同获得 R&D100 奖项。天 Iplas已经拥有等离子技术域的 20 余项利。
金刚石在Ir/YSZ/Si上的异质外延
德国Audiaec公司采用的是德国IPLAS设备,目德国Audiaec与DF公司合并了。
Augsburg Diamond Technology GmbH利用化学气相沉积技术在外源衬底(异质外延)上合成单晶金刚石。同外延的普遍概念是需要适当尺寸的单晶金刚石作为种子,与此相反,我们的新方法采用多层体系Ir/YSZ/Si作为可扩展的衬底。 这一创新有助于次在直径达100毫米的圆盘上合成单晶金刚石。
IR/ YSZ /SI
直径为100mm的异质外延金刚石合成衬底:铱/钇稳定氧化锆/硅,用于第四代半导体, 是第四代半导体的终材料。
钻石晶片:独立式单晶钻石圆盘,直径92毫米,重量155克拉
产品
具有独特尺寸的单晶钻石
我们的钻石已经成功地集成在各种高科技产品中,如超精密加工的刀具,手术刀,固体钻石球体,ATR棱镜....
为实现您的特定产品,我们可以提供不同形状,大小和晶体取向的单晶钻石。4p Geo A, 4p Geo B, 2p类型1,2p类型2,种子晶体,特殊形状,光学规格:尺寸a、b、c的标准公差:+0,25 / - 0,00mm(根据要求:+0,05 / - 0,00mm) 2p石头:poli
创新科技培育钻石是在一台技术仪器中,模拟自然环境下天然钻石生成所需的环境而生成的钻石。培育钻石是由优秀的科学家、业的工程师及娴熟的技术人员所创造,是人类科技智慧的结晶。
家预言本世纪重要的发明将是会长大的钻石,是半导体的终材料。培育钻石会取代硅在半导体的角色,研发第四代半导体,使人类科技进入另一,培育钻石作为一种新贵资源也将成为人们追逐的热点。