美国UVOCS  UVO₃清洗机T10x10/OES,T16x16/OES

紫外臭氧清洗，去除无机基 材料（如：石英、硅片、金、镍、 铝、砷化镓，氧化铝等）上的有 机污染物；特别是当基材和薄膜蒸镀需要很好的粘接时，紫外清洗非常理想。要获得超洁净的表 面，只需在传统清洗之后，再用 紫外臭氧清洗几分钟就可以。

应用说明
• 表面的原子级清洗                                           
•去除有机分子
•紫外光固化、表面化学改性
•聚合物粘接、金属粘结准备
•微流控制作、微米/纳米构型
•表面杀菌、表面氧化
•释放捕获的无机分子
•快速－大多数应用10分钟内可完成




 

紫外臭氧清洗可以去除？
皮肤油脂，有机硅油和油脂，助焊剂，残留的光刻胶，胶水溶剂，碳等。

怎样说是“超”洁净？
接触角测量方法4-5度。适用AES和ESCA测量细微的峰值。使用蒸汽测试，在冷凝 和蒸发时形成一致的彩虹装的条纹。


应用说明