当前位置：易推广 > 光学仪器 > 光学应用 > 光学平台 > 深圳市蓝星宇电子科技有限公司 > 产品展示 > 光刻机&3D打印机 > China > 紫外单面光刻机

紫外单面光刻机

URE-2000/35紫外单面光刻机

点击查看大图

价格：￥电议

型号：URE-2000/35 原产地：中国大陆发布时间：2019/8/28 18:04:23更新时间：2024/11/27 1:30:26

产品摘要：URE-2000/35 型紫外单面光刻机，中科院设计生产，曝光面积：4 英寸，非常适合工厂（效率高，操作傻瓜型，自动化程度高）和高校教学科研（可靠性好，演示方便）。

产品完善度：访问次数：1124

企业档案

会员类型：初级版会员

已获得易推广信誉等级评定

14成长值

(0 -40)基础信誉积累，可浏览访问

(41-90)良好信誉积累，可接洽商谈

(91+ )优质信誉积累，可持续信赖

易推广初级版会员：6年

工商认证【已认证】

最后认证时间：

注册号：【已认证】

法人代表：【已认证】

企业类型：代理商【已认证】

注册资金：人民币1080万【已认证】

产品数：446

参观次数：738055

手机网站：http://m.yituig.com/c143096/

商铺地址：http://www.lxyee.net

产品分类

详细内容

URE-2000/35 型紫外单面光刻机

1．技术特征——非常适合工厂（效率高，操作傻瓜型，自动化程度高）和高校教学科研
（可靠性好，演示方便）
采用自动找平，具备真空接触曝光、硬接触曝、压力接触曝以及接近式曝光四种功能，自动分离对准间隙和消除
曝光间隙，采用 350W 进口（德国）直流汞灯，可调节光的能量密度。设备外形美观精制，性能非常可靠，自动化程
度很高，操作十分方便。

2．技术参数
 曝光面积：4 英寸
 曝光波长：365nm
 分辨力：0.8m  对准精度：0. 8m  掩模样片整体运动范围：X：15mm;Y:15mm
 掩模尺寸：2.5 英寸、3 英寸、4 英寸、5 英寸
 样片尺寸：直径 10mm－－ 100mm(各种不规则片)
厚度 0.1mm－－5mm(可扩展为 15mm)
 曝光方式：定时（倒计时方式）和定剂量
 具备真空接触曝光、硬接触曝光、压力接触曝光，以及接近式曝光四种功能
 照明不均匀性： 3%（100mm 范围）
 双目双视场对准显微镜：既可通过目镜目视对准，也可通过 CCD+显示器对准，光学合像，光学大倍数 400 倍，
光学+电子放大 800 倍
物镜三对：4 倍、10 倍、20 倍
目镜三对：10 倍、16 倍、20 倍  调平接触压力通过传感器保证重复
 数字设定对准间隙和曝光间隙
 具备压印模块接口，也具备接近模块接口
 掩模相对于样片运动行程：
X: 5mm; Y: 5mm; : 6º
 大焦厚：400m（SU8 胶，用户提供检测条件）
 光源平行性：3.5 º
 曝光能量密度：>20mW/cm2,照明面温度<35 º
 单层曝光一键完成
 采用球气浮自动找平
 汞灯功率：350W（直流，进口汞灯）

3．外形尺寸：1200mm（长）900mm(宽) 1750mm（高）

4．配置

（1）曝光头
 冷光椭球镜
 350W 进口直流高压汞灯(进口)  XYZ 汞灯调节台
 冷却风扇
 光学系统：固定光栏、可变光栏、快门、准直镜镜 1、准直镜镜 2、蝇眼透镜组（79 个透镜）、i 线滤光片、场镜 1、冷光反射镜 1、反射镜 2

（2）对准工件台
 掩模样片整体运动台
 掩模样片相对运动台
 转动台
 样片调平机构,自动完成
 基片抽拉式上下机构
 样片调焦机构，电机自动调
 承片台 4 个：15mm 、2 英寸、3 英寸、4 英寸（可按用户要求增减）
 掩模夹 4 个：3 英寸、4 英寸、5 英寸（可按用户要求增减）

（3）对准显微镜
 光源（配备品 2 只）、电源
 双目双视场对准显微镜主体
 目镜 3 对（10 倍、16 倍、20 倍，共 6 个）
 物镜 3 对（4 倍、10 倍、20 倍，共 6 个）
 CCD 对准系统，21 寸液晶显示器

（4）电控系统
 汞灯触发电源(350W 直流汞灯)  单片机控制系统
 控制柜桌

（5）气动系统
 气缸、电磁阀、减压阀、气动开关等
 电磁阀驱动
 气动仪表

（6）其他附件
 真空泵一台
 空压机一台
 管道

（7）技术资料
 使用维修说明书
 显微镜使用说明书

返回顶部

点击询价

联系方式

产品展示

紫外单面光刻机

点击查看大图

企业档案

已获得易推广信誉等级评定

光刻机&3D打印机

镀膜沉积机

离子刻蚀与沉积

匀胶涂覆机

半导体辅助设备

半导体微纳检测仪器

实验检测仪器

紫外清洗等离子清洗机

太阳能检测仪

德国YXLON 检测仪

德国Netzsch

Rion 液体光学颗粒度仪

液体光学颗粒度仪

奥地利EVG光刻杨键合机压印机

尼康Nikon光刻机

德国Lecia 切片掩膜一体机

日本Elionix

化学开封机 / 激光开封机

光刻胶/硅片

半导体辅助工艺/光刻胶

日立Hitachi

UV灯

联系我们

详细内容

快速导航

紫外单面光刻机

企业档案

已获得易推广信誉 等级评定

联系我们

详细内容

快速导航

已获得易推广信誉等级评定