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高级型原子层沉积机

R-200 ALD高级型原子层沉积机

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价格：￥电议

型号：R-200 ALD 原产地：欧洲发布时间：2019/9/11 23:09:08更新时间：2024/12/24 10:10:38

产品摘要：芬兰PICOSUN™ R-200高级型 ALD，衬底尺寸和类型：。50-200 mm /单片。156 mm x 156 mm太阳能硅片。3D复杂表面衬底。粉末与颗粒。Roll-to-roll , 衬底宽 70 mm 。多孔，通孔，高深宽比（HAR）样品

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注册资金：人民币1080万【已认证】

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手机网站：http://m.yituig.com/c143096/

商铺地址：http://www.lxyee.net

产品分类

详细内容

芬兰PICOSUN™ R-200高级型 ALD

技术参数

衬底尺寸和类型：

。50-200 mm /单片
。156 mm x 156 mm太阳能硅片
。3D复杂表面衬底
。粉末与颗粒
。Roll-to-roll , 衬底宽 70 mm
。多孔，通孔，高深宽比（HAR）样品

工艺温度： 50 - 500 °C , 可选更高温度

基片传送选件：

。气动升降（手动装载）
。预真空室安装磁力操作机械手（Load lock ）
。半自动装载，用PICOPLATFORM™200集群系统实现
。25片晶圆盒对盒式全自动装载（cassette-to-cassette），用PICOPLATFORM™200集群系统实现

前驱体 ：

。液态、固态、气态、臭氧源、等离子体（*多4路气体）
。6根独立源管线，*多加载12个前驱体源（加上Plasma管路，共7根独立源管线）

重量：350 + 200 kg

尺寸：(W x H x D) 取决于选件

*小：146 cm x 146 cm x 84 cm

：189 cm x 206 cm x 111 cm

选件：集群工具，PICOFLOW™ 扩散增强器，集成椭偏仪，QCM，RGA，超高真空兼容，N2发生器，尾气处理器，定制设计，手套箱集成（用于惰性气体下装载）

验收标准：标准设备验收标准为 Al2O3工艺