瑞士Sawatec 匀胶机
企业档案
会员类型:初级版会员
已获得易推广信誉 等级评定
(0 -40)基础信誉积累,可浏览访问
(41-90)良好信誉积累,可接洽商谈
(91+ )优质信誉积累,可持续信赖
易推广初级版会员:6年
最后认证时间:
注册号: 【已认证】
法人代表: 【已认证】
企业类型:代理商 【已认证】
注册资金:人民币1080万 【已认证】
产品数:471
参观次数:748340
手机网站:http://m.yituig.com/c143096/
商铺地址:http://www.lxyee.net
光刻机&3D打印机
- 德国Nnaoscrib
- 德国Heidelberg
- 德国Zeiss
- 德国Eulitha
- 瑞士Swisslitho AG
- 瑞典Mycronic
- 英国Durham
- 英国Nanobean
- NanoArch
- 德国SUSS
- 德国ParcanNano 百及纳米针尖电子束光刻系统
- 英国AML晶圆键合机
- 瑞士 NnaoFrazor 光刻机
- 激光微加工设备
- 奥地利EVG紫外纳米压印系统
- 尼康Nikon光刻机
- Elinoix 电子束光刻机
- 纳米压印机
- 中科院
- 美国Coherrent
- 俄罗斯Optosystem
- China
- 美国OAI
- 美国Photonics
- 美国Sonoplot
镀膜沉积机
- 德国Iplas
- 德国Sentech
- 英国HHV
- 英国Oxford
- 英国Denton
- 芬兰Picosun
- 美国Nano-master
- 法国Iplas
- 美国TED Pella
- 荷兰 TSST
- 美国Denton Vacuum
- 英国Quorum涡轮分子泵抽真空镀膜仪
- 德国MBE-Komponenten 分子束外延系统
- 美国Neocera
- 日立Hitachi
- 英国Oxford Vacuum
- 法国Plassys
- 美Arradiance
离子刻蚀与沉积
匀胶涂覆机
半导体辅助设备
半导体微纳检测仪器
- 德国Zeiss扫描电镜
- 德国KSI超声波扫描显微镜
- 德国Mecwins扫描式激光分析仪
- 美国Nanovea三维表面形貌仪
- 德国Sentech薄膜测量仪/光伏测量仪
- 德国Klocke Nanotech 3D纳米级三维测量仪
- 德国YXLON 高分辨率X射线检测设备
- 瑞士Nanosurf 原子力显微镜
- 日本Ribm原子力显微镜
- 日本AND粒子计数器
- 日本JEOL显微镜
- 德国Bruker光谱仪/显微镜/台阶仪
- 韩国Ecopia美国MMR霍尔效应测试仪
- 探针台
- 美国Sonix超声波扫描显微镜
- 美Royce拉力性能测试及芯片拾取放置
- 美国Filmetrics膜厚测量仪
- 美国RTI自动特性图示仪
- 美国TEX Keithley半导体参数分析仪
- 美国MMR霍尔效应测量仪
- 日本 IAS 化学检测分析系统
- X 射线多晶衍射仪
- XRD X射线衍射仪
- FEI扫描电镜Thermo光谱仪
- 纳米压痕仪
- 少子寿命测试仪
- 德国neaspec纳米级红外光谱仪
实验检测仪器
- 电子元器件水份分析仪
- 德YXLON CT检测
- ADLEMA 检漏机
- Rion 液体光学颗粒度仪
- 粒子碰撞噪声检测仪
- 德国Attocube 显微镜
- LakeShore 振动样品磁强计
- 英Glovebox 手套箱
- 美OAI 光功率计
- 智能型氦液化器
- 美Microsense 磁克尔效应测量系统
- nanosc 高精度铁磁共振仪
- 法Alyxan 高分辨质子传递反应质谱
- 振动样品磁强计
- 超精细多功能无液氦低温光学恒温器
- 日本Tohuko 超高灵敏度材料氧化分析仪
- 纳米压痕仪
- Thorlabs傅立叶红外光谱仪
- 光功率计
- 光学式坐标测量仪
- 氟油检漏仪
- 接触角测量仪
- 美Associated 耐压测试仪
- 德国Moeller 测角仪
- 德国耐驰Netzsch
- Bruker 手持拉曼光谱仪
- Super-ME-II多铁性磁电测量系统
- 德Attocube低温强磁场原子力/磁力显微镜
- OptoCool 超精准全开放强磁场低温光学研究平台
- Neaspec 德国真空太赫兹近场光学显微镜
- 纽迈核磁共振分业析
- Oxford pulsar 实验室智能核磁共振波谱仪
- DynaCool 全新一代完全无液氦综合物性测量系统
- Anasazi 科研用小型无液氦核磁共振波谱仪
- MPMS3最新一代磁学测量系统
- PPMS 综合物性测量系统
紫外清洗等离子清洗机
- 美Harrich 等离子清洗机
- 德Diener 等离子清洗机
- 德PVA Tepla 微波等离子清洗机
- 美Nano-master 晶圆清洗机
- 美国Novascon UV清洗机
- 美国UVOCS UV清洗机
- 美国Jelight UV清洗机
- 日本SEN 紫外UV清洗机UV灯
- 美国Uvitron全功能紫外面光源
- 蓝星宇UV清洗机
太阳能检测仪
德国YXLON 检测仪
德国Netzsch
Rion 液体光学颗粒度仪
液体光学颗粒度仪
奥地利EVG光刻杨键合机压印机
尼康Nikon光刻机
德国Lecia 切片掩膜一体机
日本Elionix
化学开封机 / 激光开封机
光刻胶/硅片
半导体辅助工艺/光刻胶
日立Hitachi
UV灯
详细内容
匀胶机 SM-150 是手动或半自动薄膜涂覆的佳选择,适用于表面没有或有非常矮形貌的基板涂胶作业。所有市面上的光刻胶与涂层材料都可被均匀涂覆到尺寸大为 150mm (6”) 127x127mm (5”x5”)的基板上。工艺腔设计可满足大直径为 176mm。
SM系列的优点在于,具有令人信服的高度涂膜均匀性和工艺重复性,并且操作简单、使用舒适。为了使花费在工艺腔清洁上的精力小化,SAWATEC 公司开发了一种其实用且经济的工艺腔保护碗。工艺结束后,可以简单地移除和清理这种保护 碗。经由如此的高品质设计,也可以将维护成本小化。因此,SAWATEC匀胶机可被优先应用于实验室,研发,试产项目以及研究所。
功能(基本配置)
。可编程,多 50 个程序(各包含 24 个程序段)
。适用于重复工艺的快速启动功能
。触摸屏面板控制,方便用户程序配置工艺参数:转速、加速度、工艺时间旋转方向可选 (顺时针、逆时针)
。手动装卸基板
。通过具有安全保护的真空系统进行基板固定
。手动盖子带有空气入口和闭合安全保护工艺结束时的声音信号
性能数据
。速范围:0 到 10,000rpm +/-1rpm
。转速加速度:0–8,000rpm 为0.8/0–10,000rpm为1 1)
。减速度:10,000rpm-0 为2.5/8,000rpm-0 为0.8 1)
。工艺时间长为 2376 s
。每个程序段的给胶时间为 99 s
附加功能(可选项)
。半自动的管式给胶系统,带有手动给胶手臂和回吸功能的
。工艺腔的手动氮气净化装置
。用于简化操作的“启动/停止”脚踏开关(电缆长度 1.8m)
。经阳电镀处理的铝制工艺腔
。铝制或 PE(聚乙烯)材料制成的工艺腔保护碗用于 SM-150 匀胶机的真空泵
。晶圆定位器 2”–6”(圆形)
旋转卡盘分类
为了达成完美涂覆效果,我们提供了不同尺寸、材料和设计的旋转卡盘。根据用途的不同,可使用单块结构或具有光学辅助置中功能的两部分构成的旋转卡盘。为避免基板背面被弄脏,有时不仅要选择佳的旋转卡盘尺寸,还要采用门的卡盘设计。旋转卡盘的更换过程非常简单,不需要使用工具。
。真空卡盘小片
。真空卡盘 1” 3”(圆形)
。真空卡盘 100mm(4”) 150mm(6”)
。真空卡盘 100x100mm(4”x4”) 真空卡盘 125x125mm(5”x5”) 其他卡盘需咨询
设计和尺寸
。桌上式版本 SM -150-BT,
。内嵌式版本 SM-150-BM
。紧凑且节省空间的结构形式
。POM(聚甲醛树脂)材料制成的工艺碗,确保了高材料兼容性
。POM(聚甲醛树脂)材料制成的集成式防溅环,确保无光刻胶溅出。透明盖板:玻璃制成
。具有 3.5” 彩色显示屏的触摸屏面板
。高精度,高动态的交流伺服电机
。经电解抛光处理的不锈钢外壳
。外壳(BT): 350 x 510 x 403mm (长*宽*高)
。重量(BT): 约 29kg
。安装模块(BM): 300 x 300 x 368mm (长 x 宽 x
。安装面板 320 x 166 x 50mm ( 长 x 宽 x
。重量(BM): 约 20kg
接口
。230 VAC 50/60Hz 10A
。脚踏开关用插头接口
。技术真空,软管 Ø6/4mm(-0.8bar)
。压缩空气或氮气软管Ø6/4mm(3bar) (仅限于和给胶系统配合使用)
。排放接口 Ø12mm
。BT 废气接口 Ø38mm(20–50m3/h) BM 废气接口 Ø25mm(20–50m3/h)