当前位置: 易推广 > 行业仪器 > 涂装行业 > 喷涂机 > 深圳市蓝星宇电子科技有限公司 > 产品展示 > 光刻机&3D打印机 > 瑞典Mycronic > 瑞典Mycronic 掩膜计量系统
瑞典Mycronic 掩膜计量系统
企业档案
会员类型:初级版会员
已获得易推广信誉 等级评定
(0 -40)基础信誉积累,可浏览访问
(41-90)良好信誉积累,可接洽商谈
(91+ )优质信誉积累,可持续信赖
易推广初级版会员:6年
最后认证时间:
注册号: 【已认证】
法人代表: 【已认证】
企业类型:代理商 【已认证】
注册资金:人民币1080万 【已认证】
产品数:446
参观次数:738065
手机网站:http://m.yituig.com/c143096/
商铺地址:http://www.lxyee.net
光刻机&3D打印机
- 德国Nnaoscrib
- 德国Heidelberg
- 德国Zeiss
- 德国Eulitha
- 瑞士Swisslitho AG
- 瑞典Mycronic
- 英国Durham
- 英国Nanobean
- NanoArch
- 德国SUSS
- 德国ParcanNano 百及纳米针尖电子束光刻系统
- 英国AML晶圆键合机
- 瑞士 NnaoFrazor 光刻机
- 激光微加工设备
- 奥地利EVG紫外纳米压印系统
- 尼康Nikon光刻机
- Elinoix 电子束光刻机
- 纳米压印机
- 中科院
- 美国Coherrent
- 俄罗斯Optosystem
- China
- 美国OAI
- 美国Photonics
- 美国Sonoplot
镀膜沉积机
- 德国Iplas
- 德国Sentech
- 英国HHV
- 英国Oxford
- 英国Denton
- 芬兰Picosun
- 美国Nano-master
- 法国Iplas
- 美国TED Pella
- 荷兰 TSST
- 美国Denton Vacuum
- 英国Quorum涡轮分子泵抽真空镀膜仪
- 德国MBE-Komponenten 分子束外延系统
- 美国Neocera
- 日立Hitachi
- 英国Oxford Vacuum
- 法国Plassys
- 美Arradiance
离子刻蚀与沉积
匀胶涂覆机
半导体辅助设备
半导体微纳检测仪器
- 德国Zeiss扫描电镜
- 德国KSI超声波扫描显微镜
- 德国Mecwins扫描式激光分析仪
- 美国Nanovea三维表面形貌仪
- 德国Sentech薄膜测量仪/光伏测量仪
- 德国Klocke Nanotech 3D纳米级三维测量仪
- 德国YXLON 高分辨率X射线检测设备
- 瑞士Nanosurf 原子力显微镜
- 日本Ribm原子力显微镜
- 日本AND粒子计数器
- 日本JEOL显微镜
- 德国Bruker光谱仪/显微镜/台阶仪
- 韩国Ecopia美国MMR霍尔效应测试仪
- 探针台
- 美国Sonix超声波扫描显微镜
- 美Royce拉力性能测试及芯片拾取放置
- 美国Filmetrics膜厚测量仪
- 美国RTI自动特性图示仪
- 美国TEX Keithley半导体参数分析仪
- 美国MMR霍尔效应测量仪
- X 射线多晶衍射仪
- XRD X射线衍射仪
- FEI扫描电镜Thermo光谱仪
- 纳米压痕仪
- 少子寿命测试仪
- 德国neaspec纳米级红外光谱仪
实验检测仪器
- 电子元器件水份分析仪
- 德YXLON CT检测
- ADLEMA 检漏机
- Rion 液体光学颗粒度仪
- 粒子碰撞噪声检测仪
- 德国Attocube 显微镜
- LakeShore 振动样品磁强计
- 英Glovebox 手套箱
- 美OAI 光功率计
- 智能型氦液化器
- 美Microsense 磁克尔效应测量系统
- nanosc 高精度铁磁共振仪
- 法Alyxan 高分辨质子传递反应质谱
- 振动样品磁强计
- 超精细多功能无液氦低温光学恒温器
- 日本Tohuko 超高灵敏度材料氧化分析仪
- 纳米压痕仪
- Thorlabs傅立叶红外光谱仪
- 光功率计
- 光学式坐标测量仪
- 氟油检漏仪
- 接触角测量仪
- 美Associated 耐压测试仪
- 德国Moeller 测角仪
- 德国耐驰Netzsch
- Bruker 手持拉曼光谱仪
- Super-ME-II多铁性磁电测量系统
- 德Attocube低温强磁场原子力/磁力显微镜
- OptoCool 超精准全开放强磁场低温光学研究平台
- Neaspec 德国真空太赫兹近场光学显微镜
- 纽迈核磁共振分业析
- Oxford pulsar 实验室智能核磁共振波谱仪
- DynaCool 全新一代完全无液氦综合物性测量系统
- Anasazi 科研用小型无液氦核磁共振波谱仪
- MPMS3最新一代磁学测量系统
- PPMS 综合物性测量系统
紫外清洗等离子清洗机
- 美Harrich 等离子清洗机
- 德Diener 等离子清洗机
- 德PVA Tepla 微波等离子清洗机
- 美Nano-master 晶圆清洗机
- 美国Novascon UV清洗机
- 美国UVOCS UV清洗机
- 美国Jelight UV清洗机
- 日本SEN 紫外UV清洗机UV灯
- 美国Uvitron全功能紫外面光源
- 蓝星宇UV清洗机
太阳能检测仪
德国YXLON 检测仪
德国Netzsch
Rion 液体光学颗粒度仪
液体光学颗粒度仪
奥地利EVG光刻杨键合机压印机
尼康Nikon光刻机
德国Lecia 切片掩膜一体机
日本Elionix
化学开封机 / 激光开封机
光刻胶/硅片
半导体辅助工艺/光刻胶
日立Hitachi
UV灯
详细内容
瑞典Mycronic 掩膜计量系统Prexision-MMS
详细介绍
掩膜计量系统
主要优势
*更佳的配准: 30%
*更好地将掩膜套合到掩膜上: 20%
*更短的周转时间: 30%
· 新的创新性Prexision平台具备优异的精准度与可重复性
· 用我们的利技术改善配准测量。
· 因为次测量的结果精确无误,这大大给您节省了周转时间。
· 充分发挥我们的Prexision光刻机的潜力。
基于精确的Prexision平台打造出的Prexision-MMS将对大面积的配准测量带到了全新的高度。现在,您可以证明您的光掩膜质量究竟有多好了!
为充分利用其性能,您的测量系统性能对于精密调校光刻机也是其重要的,这样您的光掩膜才能以高的质量描绘出来。
Prexision-MMS 提供两个型号。G8型高可处理用于8代显示器玻璃尺寸的掩模尺寸。对于G10型,高可处理11代显示器尺寸。
技术指标 Prexision-MMS
掩膜对掩膜套合3σ[nm] : 40
配准3σ[nm] : 65
关键尺寸可重复性3σ[nm]: 50
大尺寸: G8
Swedish Mycronic mask metering system Prexision-MMS
Detailed introduction
Mask metering system
The main advantage
* better registration: 30%
* better mask sleeve closure to mask: 20%
* shorter turnaround time: 30%
· the latest innovative Prexision platform has excellent accuracy and repeatability
· use our patented technology to improve registration measurement.
· because the results of the first measurement are accurate, this greatly saves you turnaround time.
· realize the full potential of our Prexision lithography machine.
Based on the most accurate Prexision platform, Prexision-MMS takes registration of large areas to a whole new level.Now you can prove just how good your mask quality is!
To take full advantage of its performance, the performance of your measurement system is also extremely important for fine-tuning the lithography machine so that your mask is depicted at the highest quality.
Prexision-MMS offers two models.The G8 can handle up to eight mask sizes for the glass dimensions of the display.For the G10, up to 11 generation display sizes can be handled.
Technical specification Prexision-MMS
Mask to mask sleeve closure 3 [nm] : 40
Registration 3 [nm] : 65
Key dimensional repeatability 3 [nm]: 50
Maximum size: G8