日本JEOL 聚焦离子束加工观察系统 JIB-4000

JIB-4000聚焦离子束加工观察系统配置了高性能的离子镜筒(单束FIB装置)。被加速了的镓离子束经聚焦照射样品后，就能对样品表面进行SIM观察 、研磨，沉积碳和钨等材料。还可以为TEM成像制备薄膜样品，为观察样品内部制备截面样品。通过与SEM像比较，SIM像能清楚地显示出归因于晶体取向不同的电子通道衬度差异，这些都非常适合于评估多层镀膜的截面及金属结构。

• 产品规格
• FIB
• 离子源：Ga （镓）液态金属离子源
• 加速电压：1～30ｋV（5 kV/步）
• 放大倍率：×60 （用于视场搜索），×200～×300,000
• 图像分辨率：5 nm (30 kV)
• 大束流：60 nA (at 30 kV)
• 可变光阑：12 档(马达驱动)
• 离子束加工形状：矩形、线状、点状
• 样品台：.块状样品用 5 轴测角样品台，X:±11 mm
                                                         Y:±15 mm
                                                         Z:0.5 ～ －23 mm
                                                         T:－5 ～ ＋60°
                                                         R:360°无限
                                 样品大尺寸:  28 ｍｍφ（高度13 ｍｍ）、50 ｍｍφ（高度2 ｍｍ）

· 主要附件

· 气体注入系统 (IB-02100GIS2)

· 碳沉积圆筒 (IB-52110CDC2)

· 钨沉积圆筒(IB-52120WDC2)

· 白金沉积圆筒 (IB-52130WDC2)

· 侧插式测角样品台 (IB-01040SEG)

· 束流探测器 (IB-04010PCD)

· 操作面板(IB-05010OP)

· 样品台导航系统 (IB-01200SNS)

· FIB Tip-on(尖端上可以安装附件的)样品架(EM-02210)

· FIB 块状样品用样品架FIB  (EM-02220)

· FIB 块状样品用样品架1(EM-02560FBSH1)

· FIB 块状样品用样品架2 (EM-02570FBSH2)

· FE-SEM 样品架适配器 (EM-02580FSHA)

· 穿梭移动夹头Shuttle Retainer EM-02280 (EM-02280)

· 原位样品提取系统 (EM-02230)

产品特点：

·  JIB-4000聚焦离子束加工观察系统配置了高性能的离子镜筒(单束FIB装置)。被加速了的镓离子束经聚焦照射样品后，就能对样品表面进行SIM观察 、研磨，沉积碳和钨等材料。还可以为TEM成像制备薄膜样品，为观察样品内部制备截面样品。通过与SEM像比较，SIM像能清楚地显示出归因于晶体取向不同的电子通道衬度差异，这些都非常适合于评估多层镀膜的截面及金属结构。

· 高性能FIB镜筒

· JIB-4000采用高性能的FIB镜筒，大离子束流高达 60 nA，能进行快速研磨。大电流下的快速加工尤其适合于大面积的研磨，制备100 μｍ以上用来观察的截面非常轻松。

· 用户友好的FIB装置

· JIB-4000高性能的 FIB镜筒具有出色的可操作性。用户友好的外观和GUI设计，建立了使用方便的FIB系统。即使不是FIB家也能够轻松操作，此外，该装置小巧紧凑为业界小体积，安装地点的选择范围很大。

· 双样品台

· JIB-4000标配的块状样品马达驱动样品台可供块状样品使用，此外还可以增配侧插式测角台（TEM用Tip-on 样品架可以直接插入）。块状样品马达驱动样品台能观察整个表面为20 mm x 20 mm的块状样品，样品交换可以通过气锁式系统快速进行。侧插式测角台与JEOL的TEM系统使用的相同，因此Tip-on （尖端上可以安装附件的）样品架与JEOL的TEM系统可以通用，这样，FIB加工和TEM观察的反复交替就能很容易地进行。

· 丰富的附件

· 有各种附件可用来支持JIB-4000的操作。包括对电路修改应用特别有效的CAD导航系统，对特殊形状加工有效的矢量扫描系统等。通过给JIB-4000安装适当的附件，该系统可以支持样品制备以外的应用。