500(第1页)_深圳市蓝星宇电子科技有限公司

SI 500德国Sentech ICP-RIE等离子蚀刻机- SI 500

德国Sentech ICP-RIE等离子蚀刻机- SI 500，8英寸的晶圆

价格：￥电议型号：SI 500产地：中国大陆
SI 500-300德国 Sentech 多晶圆等离子刻蚀机

ICP-RIE Plasma Etcher - SI 500-300 Multiwafer SI 500-300多晶圆等离子刻蚀机300 mm / 400 mm 载板，用于多片晶圆

价格：￥电议型号：SI 500-300产地：欧洲
SI 500 RIE德国Sentech 等离子刻蚀机

德国Sentech 等离子刻蚀机 SI 500 RIE，RIE 蚀刻机，最大 8 英寸晶圆, 带可选的 ICP 源扩展

价格：￥电议型号：SI 500 RIE产地：欧洲
SI 500 C德国Sentech 低温等离子蚀刻机

德国Sentech 低温等离子蚀刻机 SI 500 C，最大 8 英寸晶圆，-150°C...+150°C

价格：￥电议型号：SI 500 C产地：欧洲
SI 500 PPD德国Sentech PECVD沉积设备

德国Sentech PECVD沉积设备 SI 500 PPD,最大 8 英寸晶圆, 高达 350°C 的基板温度, 低频混合，300-500 kHz可选

价格：￥电议型号：SI 500 PPD产地：欧洲
SI 500 D德国Sentech PECVD沉积设备

德国Sentech PECVD沉积设备 SI 500 D，最大 8 英寸晶圆，RT....300/400°C 基板温度

价格：￥电议型号：SI 500 D产地：欧洲
HMS-5000/HMS-5500全自动变温霍尔效应测试仪

型号：HMS-5000 / HMS-5500$r$n生产商：ECOPIA Corp.$r$n(80K-350K，常温-773K)

价格：￥电议型号：HMS-5000/HMS-5500产地：其它
HBO350W/S，HBO5000W/S,HBO200W/DC,HBO1000W/DSUSS光刻机用曝光灯HBO系列

SUSS苏斯/休斯，EVG, OAI等系列光刻机用曝光灯HBO系列，$r$nSUSS苏斯，EVG, OAI公司生产的半导体和太阳能行业用光刻机，目得到业界的广泛认同，该系列光刻机曝光系统的曝光灯，主要是由德国欧司朗及日本牛尾公司生产的曝光灯进行配套供应。欧司朗/牛尾曝光灯系列，具备良好的光通量，稳定的光强度以及优质的品质受到业界的青睐。

价格：￥电议型号：HBO350W/S，HBO5000W/S,HBO200W/DC,HBO1000W/D产地：中国大陆
DSC 3500 Sirius德国Netzsch 差示扫描量热仪

德国Netzsch 差示扫描量热仪DSC 3500 Sirius，该技术操作简便，分析快速，在研发、制造和质量检验域中逐渐成为不可取代的检测技术。针对具体材料、产品的应用和性能评估及解析，对应有各种各样的标准（如ASTM，DIN，ISO等）。

价格：￥电议型号：DSC 3500 Sirius产地：欧洲
SWC-3000，SWC-4000， SWC-5000美NANO-MASTER SWC单晶圆清洗系统

美NANO-MASTER SWC单晶圆清洗系统$r$n$r$nSWC-3000 台式单晶圆/掩膜版清洗系统$r$n$r$nSWC-4000 立柜式单晶圆/掩膜版清洗系统$r$n$r$nSWC-5000 带25片Cassette 机械手自动清洗$r$n$r$n$r$n$r$n$r$nNRT-4000 独

价格：￥电议型号：SWC-3000，SWC-4000， SWC-5000产地：美洲
NRT-3500, NRT-4000美NANO-MASTER RTP快速退火炉

美NANO-MASTER RTP快速退火炉$r$n$r$nNRT-3500 紧凑型独立式全自动RTP系统$r$n$r$nNRT-4000 独立式全自动RTP系统$r$n$r$nNRT-4000 独立式大批量RTP系统$r$n$r$n$r$n$r$nNIR-4000 独立式 IBE / RIE 双刻蚀系统$r$n$r$nNIE-3000 台式 IBE 刻蚀系统NSC-3000可支持多4个靶的DC溅射或RF溅射$r$n$r$n

价格：￥电议型号：NRT-3500, NRT-4000产地：美洲
NLD-4000,NLD-3500,NLD-3000美Nano-master ALD/PEALD原子层沉积系统

美Nano-master ALD/PEALD原子层沉积：$r$n$r$nNLD-4000 独立式ALD系统$r$n$r$nNLD-3500 紧凑型独立式ALD系统$r$n$r$nNLD-3000 台式ALD系统

价格：￥电议型号：NLD-4000,NLD-3500,NLD-3000产地：美洲
NIE-4000,NIE-3500,NIR-4000,NIE-3000美Nano-master等离子清洗/灰化系统

NANO-MASTER等离子清洗和灰化系统设计用于广泛的需求，从批处理和单晶圆的光刻胶剥离到晶圆表面改性都可以涵盖。这些系统通过计算机控制，可以配套不同的等离子源，加热和不加热的基片夹具，以及独一无二的从等离子刻蚀切换到RIE刻蚀模式的能力。$r$n$r$n$r$n$r$n$r

价格：￥电议型号：NIE-4000,NIE-3500,NIR-4000,NIE-3000产地：美洲
NIE-4000,NIE-3500,NIR-4000,NIE-3000美NANO-MASTER IBM离子铣/IBE离子束刻蚀系统

IBM离子铣/IBE离子束刻蚀系统：$r$n$r$nNIE-4000 独立式 IBE 刻蚀系统$r$n$r$nNIE-3500 紧凑型独立式 IBE 刻蚀系统$r$n$r$nNIR-4000 独立式 IBE / RIE 双刻蚀系统$r$n$r$nNIE-3000 台式 IBE 刻蚀系统NSC-3000可支持多4个靶的DC溅射或RF溅射$r$n$r$n

价格：￥电议型号：NIE-4000,NIE-3500,NIR-4000,NIE-3000产地：美洲
NSC-4000,NSC-3500,NSC-3000,NSC-1000美Nano-master磁控溅射系统

美Nano-master磁控溅射系统：$r$n$r$nNSC-4000独立式磁控溅射系统，可支持共溅射等能力的扩展$r$n$r$nNSC-3500紧凑型独立式热蒸镀，可以支持金属材料的DC溅射，介质材料的RF溅射，以及脉冲DC溅射等应用。$r$n$r$nNSC-3000可支持多4个靶的DC溅射或RF溅射$r$n$r$nNSC-1000单金靶靶材的台式溅射系统，不但可用于电镜制备，也可以用于常规的金属溅射

价格：￥电议型号：NSC-4000,NSC-3500,NSC-3000,NSC-1000产地：美洲
NTE-4000,NTE-3500,NTE-3000,NTE-1000美Nano-master热蒸镀系统

美Nano-master热蒸镀系统：NTE-4000 独立式电子束蒸镀，NTE-3500 紧凑型独立式热蒸镀，NTE-3000 双蒸源台式热蒸镀系统，NTE-1000 简便型热蒸镀。热蒸镀系统可以跟NANO-MASTER那诺-马斯特的其它任意真空系统组成双系统。

价格：￥电议型号：NTE-4000,NTE-3500,NTE-3000,NTE-1000产地：美洲
CL7500俄罗斯Optosystems准分子激光器

俄罗斯Optosystems准分子激光器CL7500,MOPA激光系统(主振荡器功率放大器),由两个激光器CL7020或CL7050基于单光平台组成, 应用：布拉格光栅,激光诱导荧光技术.$r$n$r$n

价格：￥电议型号：CL7500产地：欧洲
CLS5000俄罗斯Optosystems准分子激光器

俄罗斯Optosystems准分子激光器CLS5000,波长短（紫外），短脉冲宽度，高脉冲能量，是激光器家族不可替代的品种！应用上，准分子激光器在脉冲沉积镀膜（PLD），光纤光栅刻写，LASIK，光刻，微纳加工等方面占主导的地位。$r$n

价格：￥电议型号：CLS5000产地：欧洲
CL5000俄罗斯Optosystems准分子激光器

俄罗斯Optosystems准分子激光器CL5000,是传统的气体激光器，由于波长短（紫外），短脉冲宽度，高脉冲能量，是激光器家族不可替代的品种！应用上，准分子激光器在脉冲沉积镀膜（PLD），光纤光栅刻写，LASIK，光刻，微纳加工等方面占主导的地位。$r$n$r$n $r$n$r$n

价格：￥电议型号：CL5000产地：欧洲
OCTOPLUS 500德国MBE-Komponenten 分子束外延系统

OCTOPLUS 500 MBE系统是为了在6英寸衬底上生长高质量的III/V族或者II-VI族异质结构材料而研发业分子束外延系统。样品台选用热解石墨加热或者钨、钽加热丝。标准的OCTOPLUS 500有11个呈放射状分布的源孔，可以根据需要增选3个源孔。

价格：￥电议型号：OCTOPLUS 500产地：欧洲

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