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深圳市蓝星宇电子科技有限公司 主营产品:光刻机,真空镀膜机,离子刻蚀机,,半导体辅助材料,半导体微纳检测仪器,太阳能吸收率发射击队率检测仪,,实验检测仪器设备,紫外线UV光清洗机UV灯.

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手机网站:http://m.yituig.com/c143096/

商铺地址:http://www.lxyee.net

光刻机&3D打印机

镀膜沉积机

离子刻蚀与沉积

匀胶涂覆机

半导体辅助设备

半导体微纳检测仪器

实验检测仪器

紫外清洗等离子清洗机

太阳能检测仪

德国YXLON 检测仪

德国Netzsch

Rion 液体光学颗粒度仪

液体光学颗粒度仪

奥地利EVG光刻杨键合机压印机

尼康Nikon光刻机

德国Lecia 切片掩膜一体机

日本Elionix

化学开封机 / 激光开封机

光刻胶/硅片

半导体辅助工艺/光刻胶

日立Hitachi

UV灯

  • SI 500 D德国Sentech PECVD沉积设备

    德国Sentech PECVD沉积设备 SI 500 D,最大 8 英寸晶圆,RT....300/400°C 基板温度

    价 格:¥电议型 号:SI 500 D产 地:欧洲

  • SI ALD / SI PEALD德国Sentech 原子层沉积设备

    德国Sentech 原子层沉积设备 SI ADL LL/ SI PEALD LL,在 8 英寸晶圆和玻璃基板上实现高度均匀的薄膜厚度, 在具有高纵横比的模型上进行 3D保形沉积, 400/500°C 基板温度, 最大 8 英寸晶圆.

    价 格:¥电议型 号:SI ALD / SI PEALD产 地:欧洲

  • SI ADL LL/ SI PEALD LL德国Sentech 原子层沉积设备

    德国Sentech 原子层沉积设备 SI ADL LL/ SI PEALD LL,在 8 英寸晶圆和玻璃基板上实现高度均匀的薄膜厚度, 在具有高纵横比的模型上进行 3D保形沉积, 400/500°C 基板温度, 最大 8 英寸晶圆.

    价 格:¥电议型 号: SI ADL LL/ SI PEALD LL产 地:欧洲

  • 德国Sentech多腔体沉积镀膜刻蚀设备

    德国Sentech多腔体沉积镀膜刻蚀设备,集群配置,所有等离子工具都可以排列在一个集群工具中。提供用于研发和高吞吐量生产的集群。通过单个晶圆装载锁和/或晶圆盒站装载晶圆。

    价 格:¥电议型 号:产 地:欧洲

  • SLI 670德国Sentech激光干涉仪

    德国Sentech激光干涉仪 SLI 670,670 nm 波长,光斑尺寸 100 μm,电动载物台,反射率和干涉模式

    价 格:¥电议型 号: SLI 670产 地:欧洲

  • AWB-04, AWB-08,ROCK-04,ROCK-08英国AML原位对准晶圆键合机

    英国AML原位对准晶圆键合机对准+活化+键合,一站式完成,并具有纳米压印功能。是目前市场上能够实现在同一设备上完成原位对准、激活、键合的设备,是MEMS,IC,和III-V键合工艺的最佳选择

    价 格:¥电议型 号: AWB-04, AWB-08,ROCK-04,ROCK-08产 地:欧洲

  • TFXRD-300/200日本理学X射线衍射仪

    日本理学X射线衍射仪 TFXRD-300/200, 适用于Near-Fab Application的无损方式XRD·Mapping Tool有多种光学元件可选的高精度测角仪,用于氮化镓(GaN)质量管理,可对应大规格晶圆的X射线衍射分析(XRD)系统

    价 格:¥电议型 号:TFXRD-300/200产 地:日本

  • TFXRD-300/200日本理学X射线衍射仪

    日本理学X射线衍射仪 TFXRD-300/200, 适用于Near-Fab Application的无损方式XRD·Mapping Tool有多种光学元件可选的高精度测角仪,用于氮化镓(GaN)质量管理,可对应大规格晶圆的X射线衍射分析(XRD)系统

    价 格:¥电议型 号:TFXRD-300/200产 地:日本

  • EDA407电子元器件水份分析仪

    电子元器件水汽分析仪EDA407,● 分析气体:水汽、H2、He、CH4、NH3、 N2、O2、Ar、CO2、氟碳化合物等气体● 质量数范围: 1-512amu ● 检测极限: <100PPM(水汽) < 10PPM(其他气体)

    价 格:¥电议型 号:EDA407产 地:欧洲

  • FF35 CT德国YXLON多用途高分辨率CT系统

    德国YXLON多用途高分辨率CT系统FF35 CT,微焦点、纳米焦点双射线 源配置,大限度提高多 功能性$r$n$r$n • 单或双射线源配置,可大限度提高 CT 应用 多功能性$r$n$r$n

    价 格:¥电议型 号:FF35 CT产 地:欧洲

  • URE-2000/30 D多波段定制型紫外光刻机

    具备真空接触曝光、硬接触曝光、压力接触曝光,以及接近式曝光四种功能

    价 格:¥ 490000型 号:URE-2000/30 D产 地:中国大陆

  • Model 659OAI UV METER

    OAI is a world leader in UV Liight & Energy Measurement Instrumentation used for reliable accurate calibrated control of the hotolithography processes in the Semiconductor

    价 格:¥电议型 号:Model 659产 地:美洲

  • HMS-5000/HMS-5500全自动变温霍尔效应测试仪

    型号:HMS-5000 / HMS-5500$r$n生产商:ECOPIA Corp.$r$n(80K-350K,常温-773K)

    价 格:¥电议型 号:HMS-5000/HMS-5500产 地:其它

  • CYRANNUS®微波等离子化学气相沉积系统

    德国IPLAS MPCVD CYRANNUS® 利技术微波等离子化学气相沉积系统,广泛应用于第四代半导体,射频器件,散热器件,光学窗口等高科技令域,晶圆生长金刚石膜,被誉为半导体终材料。$r$n$r$n

    价 格:¥ 4980000型 号:CYRANNUS®产 地:欧洲

  • URE-2000/34AL型紫外光刻机

    URE-2000/34AL型光刻机,曝光分辨率: 0.8μm-1μm ,套准精度:±0.8-1μm$r$n$r$n

    价 格:¥电议型 号:URE-2000/34AL型产 地:中国大陆

  • LFA 467 HyperFlash德国NETZSCH 闪射法导热仪

    LFA 467 HyperFlash 闪射法导热仪,自由选择测试气氛,优化结构设置与闪射光源,16位自动进样器,高的测量效率,宽广的温度范围,灵活配备冷却系统,设计独特,性能优异,配备氙灯光源的,高温测试系统,宽广的温度范围,真空密闭炉体,确保气氛纯净,防止氧化,内置微型管式炉,更高的测量效率,高数据采集速率- 用于薄膜与高导热材料的解决方案

    价 格:¥电议型 号:LFA 467 HyperFlash产 地:中国大陆

  • DSC 300德国NETZSCH差示扫描量热仪

    差示扫描量热仪DSC 300 ,是全面、可靠的DSC仪器系列,表征材料热性能游刃有余。

    价 格:¥电议型 号:DSC 300产 地:欧洲

  • InSEM HT美国KLA 原位高温纳米力学测试系统,纳米压痕仪

    美国KLA InSEM HT原位高温纳米力学测试系统,纳米压痕仪,样品加温可达800 ℃,样品尺寸可达10MM,装样系统与真空环境兼容

    价 格:¥电议型 号:InSEM HT产 地:美洲

  • FF85德YXLON CT检测

    德国YXLON$r$n$r$nFF85 CT用于质量控制及科研的高分辨率、致多用途检测$r$n$r$n$r$n

    价 格:¥电议型 号:FF85产 地:欧洲

  • BT4000ADLEMA检漏机

    ADLEMA先进的检漏机BT4000$r$n$r$n技 术 规 格$r$n$r$n• 尺 寸 :270x200x300mm$r$n$r$n• 重 量 :8kg$r$n$r$n• 电 源 输 入 :24 VDC$r$n$r$n• 管 径 :4x2, 6x4, 8x6, 10x8$r$n

    价 格:¥电议型 号:BT4000产 地:欧洲

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