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光刻机&3D打印机
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匀胶涂覆机
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液体光学颗粒度仪
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半导体辅助工艺/光刻胶
日立Hitachi
UV灯
已选条件
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V-Octo德国 KSI 八探头大型超声波扫描显微镜系统
KSI V-Octo 八探头大型超声波扫描显微镜系统，该系统同时使用8只换能器，能最大限度的确保快速图像采集和高效能。
价 格：￥电议型 号：V-Octo产 地：欧洲
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Nano型KSI高分辨率表层缺陷超声波扫描显微镜系统
KSI－Nano型高分辨率表层缺陷超声波扫描显微镜系统$r$n声学显微成像系统和光学显微成像系统的完美结合$r$n
价 格：￥电议型 号：Nano型产 地：欧洲
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i-IngotKSI 型全自动晶锭分析检测系统
KSI i-Ingot型全自动晶锭分析检测系统,适用于对晶锭的无损检测，有了它，晶锭内部的裂缝或杂质就能得到快速检测，晶锭的尺寸可达450mm，检测时间短，也不需要做其它设定。
价 格：￥电议型 号：i-Ingot产 地：欧洲
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i-Wafer德国KSI 型 全自动晶圆超声波缺陷检测系统
德国KSI i-Wafer型全自动晶圆超声波缺陷检测系统，在KSI i-Wafer的探测下，晶圆中的孔隙、分层或者杂质都能被发现。尺寸在450mm的多种晶圆也能进行检测
价 格：￥电议型 号：i-Wafer产 地：欧洲
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SII德国 ParcanNano百及纳米单离子注入系统
ParcanNano 纳米精准定位的单离子注入系统 SII,基于新型扫描针尖精准定位的离子注入系统，实现有效控制注入半导体器件的杂质种类、数量和位置。可用于基于电离杂质诱导的量子点所构建的量子信息域，研制的设备可用于探索纳米结构器件、量子比特系统和量子信息处理器电路的开发。
价 格：￥电议型 号：SII产 地：欧洲
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SI 500德国 Sentech 等离子体 ICP 干法刻蚀机
SENTECH SI 500 电感耦合等离子体ICP干法刻蚀系统，$r$n感应耦合等离子刻蚀机台，低损伤纳米结构刻蚀，高速率刻蚀，内置ICP等离子源，动态温控。
价 格：￥电议型 号：SI 500产 地：欧洲
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ICP-RIE SI 500德国 Sentech 等离子刻蚀机
德国Sentech ICP-RIE SI 500 等离子刻蚀机，代表了电感耦合等离子体(ICP)加工在研究和生产上的先优势。它以PTSA等离子体源、动态控温基片电、全控真空系统、先进的Sentech 控制软件为基础，采用远程现场总线技术，为操作SI 500提供了非常人性化的通用用户界面。灵活性和模块化是SI 500的设计特点。
价 格：￥电议型 号：ICP-RIE SI 500产 地：欧洲
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RIE SI591德国 Sentech 反应离子刻蚀机
ENTECH RIE SI591 平板电容式反应离子刻蚀机，兼容多种氯基或氟基刻蚀工艺；小型化和高度模块化；SENTECH控制软件
价 格：￥电议型 号：RIE SI591产 地：欧洲
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SI 500 PPD德国 Sentech 等离子沉积机
德国Sentech PECVD SI 500 PPD等离子沉积机,。它是基于平面电容耦合等离子体源，真空加载锁定，$r$n控温基片电，可选配低频混频，全控无油真空系统采用先进的森泰克控制软件，采用远程现场总线技术，具有非常友好的通用用户界面用于操作SI 500 PPD的用户界面。
价 格：￥电议型 号：SI 500 PPD产 地：欧洲
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SI 500 D德国 Sentech 等离子沉积机
德国 Sentech SI 500 D 等离子沉积机，具有特殊的等离子体特性，如高密度、低离子能量和介质膜的低压沉积。
价 格：￥电议型 号：SI 500 D产 地：欧洲
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Sigma SEM德Zeiss 电子束直写仪
德Zeiss Sigma SEM 电子束直写仪,利用曝光抗蚀剂，采用电子束直接曝光，可在各种衬底材料表面直写各种图形，图形结构（小线宽为10mm），是研究材料在低维度、小尺寸下量子行为的重要工具。广泛应用于纳米器件，光子晶体，低维半导体等沿域。
价 格：￥电议型 号：Sigma SEM产 地：欧洲
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Prexision-800.瑞典 Mycronic 光刻机
主要优势$r$n提高分辨率 25%$r$n$r$n更佳的贴片性能 70%$r$n$r$n更快的写入速度20%
价 格：￥电议型 号：Prexision-800.产 地：欧洲
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Photonic Professional GT2英国Nanobean 电子束光刻机
英国Nanobean NB5 电子束光刻机,具有良好的稳定性，平均正常运行时间超过93%.
价 格：￥电议型 号：Photonic Professional GT2产 地：欧洲
