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光刻机&3D打印机
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匀胶涂覆机
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- 美国MMR霍尔效应测量仪
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Rion 液体光学颗粒度仪
液体光学颗粒度仪
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半导体辅助工艺/光刻胶
日立Hitachi
UV灯
已选条件
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MT Century Curve Tracer美国RTI自动特性图示仪
美国RTI自动特性图示仪 MT Century Curve Tracer，是一个性价比较高的曲线追踪设备。最多到96个channel，提供4种型号可供客戶选择，MT Century Curve Tracer 与RTI其他大型curve trace拥有一样的可靠性，功率和软件。像其他RTI机型一样，MT Century系統的设计有与950系列的测试夾具及其它专用夾具连接的接口。
价 格：￥电议型 号：MT Century Curve Tracer产 地：美洲
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Vapour Station 4英国Oxford Vacuum 电子束蒸发镀膜机
英国Oxford Vacuum 电子束蒸发镀膜机Vapour Station 4,是一款微纳器件样品制备系统，为有机无机多源有气相分子沉积系统，高真空条件下，通过加热材料的方法，在衬底上沉积各 种化合物、混合物单层或多层膜，具有高真空多源有机、金属电阻蒸发及手 套箱保护条件下器件后期制作，主要用于有机半导体材料的物理化学性能，研究实验、有机半导体器件的原理研究实验也可用于普通金属电蒸发镀膜究。
价 格：￥电议型 号：Vapour Station 4产 地：欧洲
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THz-NeaSNOMOptiCool超精准全开放强磁场低温光学研究平台
OptiCool超精准全开放强磁场低温光学研究平台，系统拥有3.8英寸超大样品腔、双锥型劈裂磁体，可在超大空间为您提供高达±7T的磁场。多达7个侧面窗口、1个顶部超大窗口方便光线由各个方向引入样品腔，高度集成式的设计让您的样品在拥有低温磁场的同时摆脱大型低温系统的各种束缚。$r$n $r$n
价 格：￥电议型 号：THz-NeaSNOM产 地：美洲
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80 Plus HS, GIGA690,10N Optimus100,80 Plu德国 PVA TePla等离子清洗系统
德国 PVA TePla等离子清洗系统80 Plus HS, GIGA690,10N Optimus100,80 Plus，有别于传统的射频等离子(物理)清洗方式，微波等离子清洗可以清洗到样品的每一个部位，实现清洗过程的自由基不会被障碍物所阻挡，并且不会改变表面的粗糙度。
价 格：￥电议型 号：80 Plus HS, GIGA690,10N Optimus100,80 Plu产 地：欧洲
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TITAN美国Trion 离子刻蚀与沉积系统
Titan是一套用于半导体生产的十分紧凑、全自动化、带预真空室的等离子系统。$r$n$r$nTitan具有反应离子刻蚀(RIE)配置、高密度电感耦合等离子沉积(HDICP)或等离子增强型化学汽相沉积(PECVD)配置。可对单个基片或带承片盘的基片(3”-300mm)进行处理。它还具有多尺寸批量处理功能。价格适宜且占地面积小。$r$n
价 格：￥电议型 号：TITAN产 地：美洲
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Titan美国Trion 离子刻蚀与沉积系统
itan具有反应离子刻蚀(RIE)配置、高密度电感耦合等离子沉积(HDICP)或等离子增强型化学汽相沉积(PECVD)配置。可对单个基片或带承片盘的基片(3”-300mm)进行处理。它还具有多尺寸批量处理功能。价格适宜且占地面积小。
价 格：￥电议型 号：Titan产 地：美洲
