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光刻机&3D打印机
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镀膜沉积机
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离子刻蚀与沉积
匀胶涂覆机
半导体辅助设备
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- 美国MMR霍尔效应测量仪
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实验检测仪器
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- MPMS3最新一代磁学测量系统
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紫外清洗等离子清洗机
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太阳能检测仪
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德国Netzsch
Rion 液体光学颗粒度仪
液体光学颗粒度仪
奥地利EVG光刻杨键合机压印机
尼康Nikon光刻机
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日本Elionix
化学开封机 / 激光开封机
光刻胶/硅片
半导体辅助工艺/光刻胶
日立Hitachi
UV灯
已选条件
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IoN 100WB-40Q德国 PVA TePla 等离子去胶机
IoN 100WB-40Q 德国 PVA TePla 等离子去胶机，最新推出的具有高性价比的真空等离子去胶设备，配备了一个圆筒石英腔，特别适用于半导体、LED、MEMS等领域的光刻胶灰化、打残胶、氮化物刻蚀、表面清洁等应用的批次处理。
价 格：￥电议型 号：IoN 100WB-40Q产 地：欧洲
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PlasmaPro 100 ALE牛津原子层刻蚀机
PlasmaPro 100 ALE 牛津原子层刻蚀机，市场应用广，包括但不限于： MEMS和传感器、光电子、分立元器件和纳米技术。它具有足够的灵活性，可用于研究和开发，通过打造质量满足生产需求。
价 格：￥ 7型 号：PlasmaPro 100 ALE产 地：欧洲
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PlasmaPro 100 Estrelas牛津深硅刻蚀系统
PlasmaPro 100 Estrelas牛津深硅刻蚀系统，旨在提供深硅蚀刻（DSiE）域的全方位的灵活性以满足微电子机械系统（MEMS）、 先进封装以及纳米技术市场的各种工艺要求。考虑到研究和生产的市场发展，PlasmaPro 100 Estrelas 提供了更加出色的工艺灵活性。
价 格：￥ 7型 号：PlasmaPro 100 Estrelas产 地：欧洲
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System 100牛津Oxford等离子刻蚀与沉积设备
牛津OXFORD System 100 等离子刻蚀与沉积设备,该设备是一个灵活和功能强大的等离子体刻蚀和淀积工艺设备,具有工艺灵活性，适用于化合物半导体，光电子学，光子学，微机电系统和微流体技术.
价 格：￥ 4型 号：System 100产 地：欧洲
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P-300B Advanced ALD高级原子沉积机
PICOSUN P-300B Advanced ALD 高级原子沉积机,基片尺寸和类型 300mm晶圆10片/批次（标准间距）,200mm晶圆25+2片/批次（标准间距）,(W x H x D) 149 cm x 191 cm x 111 cm,标准设备验收标准为 Al2O3 工艺.
价 格：￥电议型 号：P-300B Advanced ALD产 地：欧洲
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P-1000 Pro ALDPICOSUN 生产型原子层沉积机
德国 PICOSUN P-1000 Pro ALD 生产型原子层沉积机,156 mm x 156 mm硅片800～1000片/批次（双面/背对背）,高达400 mm x 600 mm玻璃基板30～50片/批次（双面/背对背）,(W x H x D) 230 cm x 270 cm x 125 cm,标准设备验收标准为 Al2O3 工艺.
价 格：￥电议型 号：P-1000 Pro ALD产 地：欧洲
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LXY-SUV110X6蓝星宇UV清洗改质机
UV臭氧清洗改质机LXY-PL110X16$r$n$r$n清除玻璃/塑料/金属/陶瓷/硅/电子器件等表面有机污染, 适合生产过程流水线批量作业。
价 格：￥电议型 号：LXY-SUV110X6产 地：中国大陆
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LXY-PL110X16蓝星宇UVO清洗改质机
UV臭氧清洗改质机LXY-PL110X16$r$n$r$n清除玻璃/塑料/金属/陶瓷/硅/电子器件等表面有机污染, 适合生产过程流水线批量作业。
价 格：￥电议型 号：LXY-PL110X16产 地：中国大陆
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PhableR 100德国Eulitha 高分辨紫外光刻系统
PhableR 100 紫外光刻机是一套低成本的光学曝光系统，但却能获得高分辨率的周期性结构。同传统的紫外曝光机类似，涂覆了光刻胶的晶片以接近方式放置在掩膜版下面，被紫外光束照射。由于Eulitha公司拥有突破性的PHABLE 曝光技术，在"PHABLE"模式下，分辨率不再受到衍射的限制，从而曝光出亚微米的线性光栅和二维光栅（六角形和正方形），且曝光结果非常均匀，质量很好。
价 格：￥电议型 号：PhableR 100产 地：欧洲
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Prexision-800.瑞典 Mycronic 光刻机
主要优势$r$n提高分辨率 25%$r$n$r$n更佳的贴片性能 70%$r$n$r$n更快的写入速度20%
价 格：￥电议型 号：Prexision-800.产 地：欧洲
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FPS6100瑞典 Mycronic 掩膜版光刻机
瑞典 Mycronic 掩膜版光刻机 FPS6100，用于制作高精度掩膜版，广泛用于半导体，TFT-LCD，微电子等行业。
价 格：￥电议型 号：FPS6100产 地：欧洲
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T10x10，T16x16美国UVOCS 紫个臭氧清洗机
坚固耐用，全部不锈钢结构。UVO清洗设备的核心是低压石英汞灯，产生254和185nm范围的紫外线。臭氧和 等离子氧气产生，有机污染物分子在吸收254nm波长紫外线后被激发或分解；激发的 有机污染物可以和等离子氧原子反应形成气体，比如CO₂,等。可以去除皮肤油脂，有机硅油和油脂，助焊剂，残留的光刻胶，胶水溶剂，碳等。
价 格：￥电议型 号：T10x10，T16x16产 地：美洲
