IoN(第3页)_深圳市蓝星宇电子科技有限公司

ELS-F125日本Elionix微细加式电子束曝光电子束直写机

日本Elionix 微细加式电子束曝光电子束直写机ELS-F125，是Elionix推出的上台加速电压达125KV的电子束曝光系统，其可加工线宽下限为5nm的精细图形。$r$n$r$n$r$n $r$n

价格：￥电议型号：ELS-F125产地：日本
PrecisionThermo Scientific高性能微生物培养箱

Thermo Scientific 高性能微生物培养箱 Precision,拥有高品质的恒温培养箱和低温培养箱, 产品分为: 高性能微生物培养箱,标准微生物培养箱，小型微生物培养箱，低温培养箱。提供均匀箱定的培养环境，温度范围是室温+5℃至75℃，自然对流和机械对流两种气体循环方式的培养箱可供选择。

价格：￥电议型号：Precision产地：美洲
Vapour Station 4英国Oxford Vacuum 电子束蒸发镀膜机

英国Oxford Vacuum 电子束蒸发镀膜机Vapour Station 4,是一款微纳器件样品制备系统，为有机无机多源有气相分子沉积系统，高真空条件下，通过加热材料的方法，在衬底上沉积各种化合物、混合物单层或多层膜，具有高真空多源有机、金属电阻蒸发及手套箱保护条件下器件后期制作，主要用于有机半导体材料的物理化学性能，研究实验、有机半导体器件的原理研究实验也可用于普通金属电蒸发镀膜究。

价格：￥电议型号：Vapour Station 4产地：欧洲
Prexision-MMS瑞典Mycronic 掩膜计量系统

瑞典Mycronic 掩膜计量系统Prexision-MMS$r$n*更佳的配准: 30%$r$n*更好地将掩膜套合到掩膜上: 20%$r$n*更短的周转时间: 30%$r$n· 新的创新性Prexision平台具备优异的精准度与可重复性$r$n· 用我们的利技术改善配准测量。$r$n· 因为次测量的结果精确无误，这大大给您节省了周转时间。$r$n· 充分发挥我们的Prexision光刻机的潜力。

价格：￥电议型号：Prexision-MMS产地：欧洲
IoN 100 WB德国 PVA TePla 等离子清洗机

德国 PVA TePla 等离子清洗机IoN 100 WB,旨在满足客户大批量生产的需求，着重于表面处理的多功能性和可控性。其先进的性能提供了出色的工艺控制、失效报警系统和数据采集软件。

价格：￥电议型号：IoN 100 WB产地：欧洲
IoN 100WB-40Q德国 PVA TePla 等离子去胶机

IoN 100WB-40Q 德国 PVA TePla 等离子去胶机，最新推出的具有高性价比的真空等离子去胶设备，配备了一个圆筒石英腔，特别适用于半导体、LED、MEMS等领域的光刻胶灰化、打残胶、氮化物刻蚀、表面清洁等应用的批次处理。

价格：￥电议型号：IoN 100WB-40Q产地：欧洲
Ionfab 300 IBE牛津离子束刻蚀机

已获得利的高速衬底架（高达1000RPM）设计，并配备了白光光学监视器（WLOM）——更为准确的实时光学薄膜控制$r$n

价格：￥ 7型号：Ionfab 300 IBE产地：欧洲
Orion HDCVD美国Trion 高密度化学气相沉积系统

Orion HDCVD 高密度气相化学沉积系统采用高密度的化学气相沉积技术，在惰性气体进入口安装感应线圈，周围布置陶瓷管。射频创建等离子体,通过气体环在衬底表面附近引入挥发性气体。当惰性气体与挥发性物质结合时，会发生化学反应，然后在衬底表面沉积一层薄膜.

价格：￥电议型号：Orion HDCVD产地：美洲
Orion III PECVD美国Trion 薄膜沉积系统

$r$n美国Trion Orion III PECVD 薄膜沉积系统$r$n可以在紧凑的平台上生产高品质的薄膜。独特的反应器设计可以在在极低的功率生产具有优异台阶覆盖的低应力薄膜。该系统可以满足实验室和中试生产环境中的所有安全，设施和工艺标准要求。

价格：￥电议型号：Orion III PECVD产地：美洲
TITAN美国Trion 离子刻蚀与沉积系统

Titan是一套用于半导体生产的十分紧凑、全自动化、带预真空室的等离子系统。$r$n$r$nTitan具有反应离子刻蚀(RIE)配置、高密度电感耦合等离子沉积(HDICP)或等离子增强型化学汽相沉积(PECVD)配置。可对单个基片或带承片盘的基片(3”-300mm)进行处理。它还具有多尺寸批量处理功能。价格适宜且占地面积小。$r$n

价格：￥电议型号：TITAN产地：美洲
Oracle III美国Trion反应离子刻蚀与沉积系统

Oracle III由中央真空传输系统(CVT)、真空盒升降机和最多四个工艺反应室构成。这些工艺反应室与中央负载锁对接，既能够以生产模式运行，也能够作为单个系统独立作业。 Oracle III是市场上最灵活的系统，既可以为实验室环境进行配置(使用单基片装卸)，也可以为批量生产进行配置(使用真空盒升降机进行基片传送)。

价格：￥电议型号：Oracle III产地：美洲
Minilock-Phantom III美国Trion 具有预真空室的反应离子刻蚀机

Minilock-Phantom III 具有预真空室的反应离子刻蚀机。适用于单个基片或带承片盘的基片(3” - 300mm尺寸)，为实验室和试制线生产环境提供最先进的刻蚀能力。它也具有多尺寸批量处理(4x3”; 3x4”; 7x2”)。系统有多达七种工艺气体可以用于刻蚀各种薄膜，如氧化硅、氮化硅、多晶硅、铝、砷化镓、铬、铜、磷化铟和钛。

价格：￥电议型号：Minilock-Phantom III产地：美洲
Minilock-Orion III美国Trion 等离子增强型化学汽相沉积(PECVD)系统

Minilock-Orion III是一套最先进的等离子增强型化学汽相沉积(PECVD)系统。系统的下电极尺寸可为200mm或300mm，且根据电极配置，可以处理单个基片或带承片盘的基片(3” - 300mm尺寸)，或者多尺寸批量处理基片(4x3”; 3x4”; 7x2”)。可沉积的薄膜包括：氧化物、氮氧化物、无定形硅和碳化硅。

价格：￥电议型号：Minilock-Orion III产地：美洲
Oracle III美国Trion反应离子刻蚀与沉积系统

Oracle III由中央真空传输系统(CVT)、真空盒升降机和最多四个工艺反应室构成。这些工艺反应室与中央负载锁对接，既能够以生产模式运行，也能够作为单个系统独立作业。 Oracle III是市场上最灵活的系统，既可以为实验室环境进行配置(使用单基片装卸)，也可以为批量生产进行配置(使用真空盒升降机进行基片传送)。

价格：￥电议型号：Oracle III产地：美洲
Titan美国Trion 离子刻蚀与沉积系统

itan具有反应离子刻蚀(RIE)配置、高密度电感耦合等离子沉积(HDICP)或等离子增强型化学汽相沉积(PECVD)配置。可对单个基片或带承片盘的基片(3”-300mm)进行处理。它还具有多尺寸批量处理功能。价格适宜且占地面积小。

价格：￥电议型号：Titan产地：美洲
Gemini 和Apollo美国Trion批量生产用设备去胶系统

JBX-8100FS 圆形电子束光刻系统$r$n$r$n· 最新高精密JBX-8100FS圆形电子束光刻系统，通过全方位的设计优化，实现更简便的操作，更快的刻写速度，更小的占地面积和安装空间，并且更加绿色节能。

价格：￥电议型号：Gemini 和Apollo产地：美洲
Pioneer Two德Raith 电子束光刻机

系统中集成了高精度的激光干涉工作台，运动行程为50 x 50 x 25mm，XY方向定位精度为2nm，可以实现精确的拼接套刻，拼接套刻精度≤50nm。

价格：￥电议型号：Pioneer Two产地：欧洲
Prexision-800.瑞典 Mycronic 光刻机

主要优势$r$n提高分辨率 25%$r$n$r$n更佳的贴片性能 70%$r$n$r$n更快的写入速度20%

价格：￥电议型号：Prexision-800.产地：欧洲
Photonic Professional GT2英国Nanobean 电子束光刻机

英国Nanobean NB5 电子束光刻机,具有良好的稳定性，平均正常运行时间超过93%.

价格：￥电议型号：Photonic Professional GT2产地：欧洲

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