X(第3页)_深圳市蓝星宇电子科技有限公司

JES-X310，X320日本JEOL电子自旋共振谱仪

日本JEOL电子自旋共振谱仪 JES-X310，X320，JES-X3系列电子自旋共振谱仪，经过进一步改良低噪音耿氏振荡器，达到了极高的灵敏度。由于人们已经认识到样品中极少量的未成对电子会在很大程度上左右着材料的性能，因此对ESR的测试灵敏度也就有了更高的要求。 JEOL RESONANCE改进了低噪声的耿氏振荡器，使灵敏度比原来提高了30%。

价格：￥电议型号：JES-X310，X320产地：日本
JSX-1000S日本JEOL 能量色散型X射线荧光分析仪

日本JEOL 能量色散型X射线荧光分析仪 JSX-1000S，采用触控屏操作、提供更加简便迅速的元素分析。具备常规定性、定量分析（FP法・检量线法）、RoHS元素筛选功能等。利用丰富的硬件/软件选配件、还能进行更广泛的分析。

价格：￥电议型号：JSX-1000S产地：日本
JXA-iHP100日本JEOL 电子探针显微分析仪

日本JEOL 电子探针显微分析仪 JXA-iHP100，可以安装通用性强、使用方便的能谱仪X射线探测器，组合使用WDS和EDS，能提供无缝、舒适的分析环境。$r$n

价格：￥电议型号：JXA-iHP100产地：日本
日本JEOL 软X射线分析谱仪

日本JEOL 软X射线分析谱仪，通过组合新开发的衍射光栅和高灵敏度Ｘ射线CCD相机，实现了高的能量分辨率。和EDS一样可以并行检测，并且能以0.3eV(费米边处Al-L基准)的高能量分辨率进行分析，超过了WDS的能量分辨率。

价格：￥电议型号：产地：日本
Prexision-MMS瑞典Mycronic 掩膜计量系统

瑞典Mycronic 掩膜计量系统Prexision-MMS$r$n*更佳的配准: 30%$r$n*更好地将掩膜套合到掩膜上: 20%$r$n*更短的周转时间: 30%$r$n· 新的创新性Prexision平台具备优异的精准度与可重复性$r$n· 用我们的利技术改善配准测量。$r$n· 因为次测量的结果精确无误，这大大给您节省了周转时间。$r$n· 充分发挥我们的Prexision光刻机的潜力。

价格：￥电议型号：Prexision-MMS产地：欧洲
Quantum XD德国Nanoscrib 双光子微纳3D打印机

德国Nanoscrib 双光子微纳3D打印机Quantum X,结合了灰度光刻机的卓越性能和纳米筛网创的双光子聚合技术的精确性和灵活性。该无掩模光刻系统实现了二维和2.5D的衍射和折射显微光学的快速制作。

价格：￥电议型号：Quantum XD产地：欧洲
PlasmaPro 800 RIE英国Oxford 反应离子刻蚀机

$r$nPlasmaPro 800系列是结构紧凑、且使用方便的直开式系统，该系统为大批量晶圆和300mm晶圆上的反应离子蚀刻（RIE）工艺提供了灵活的解决方案。大尺寸的晶圆平台能够处理量产别的批量以及300mm晶圆的工艺。$r$n

价格：￥电议型号：PlasmaPro 800 RIE产地：欧洲
FTPadv Expert综合薄膜测量软件

FTPadv Expert 综合薄膜测量软件，光谱反射测量软件FTPadv Expert是专门为测量和分析R(λ)和T(λ)而设计的。用于确定各种材料的薄膜厚度、消光系数或折射率的光谱数据分析，这些参数都被加载到SENTECH光谱反射测量软件中，使得能够根据Cauchy色散、Drude振荡给出的参数描述和拟合材料。

价格：￥电议型号：FTPadv Expert产地：欧洲
PlasmaPro 100 ALE牛津原子层刻蚀机

PlasmaPro 100 ALE 牛津原子层刻蚀机，市场应用广，包括但不限于： MEMS和传感器、光电子、分立元器件和纳米技术。它具有足够的灵活性，可用于研究和开发，通过打造质量满足生产需求。

价格：￥ 7型号：PlasmaPro 100 ALE产地：欧洲
PlasmaPro 100 Estrelas牛津深硅刻蚀系统

PlasmaPro 100 Estrelas牛津深硅刻蚀系统，旨在提供深硅蚀刻（DSiE）域的全方位的灵活性以满足微电子机械系统（MEMS）、先进封装以及纳米技术市场的各种工艺要求。考虑到研究和生产的市场发展，PlasmaPro 100 Estrelas 提供了更加出色的工艺灵活性。

价格：￥ 7型号：PlasmaPro 100 Estrelas产地：欧洲
Ionfab 300 IBE牛津离子束刻蚀机

已获得利的高速衬底架（高达1000RPM）设计，并配备了白光光学监视器（WLOM）——更为准确的实时光学薄膜控制$r$n

价格：￥ 7型号：Ionfab 300 IBE产地：欧洲
PlasmaPro 80 ICP英国牛津OXFORD 等离子体刻蚀机

PlasmaPro 80 ICP 英国牛津OXFORD 等离子体刻蚀机,是一种结构紧凑、小型且使用方便的直开式系统，可提供多种刻蚀解决方案。它易于放置，便于使用，且能够确保工艺质量。直开式设计允许快速的进行晶圆装卸，是科学研究、原型设计和少量生产的理想选择。该设备通过优化了的电冷却技术和出色的衬底温度控制来实现高度稳定的工艺结果。

价格：￥ 4型号：PlasmaPro 80 ICP产地：欧洲
System 100牛津Oxford等离子刻蚀与沉积设备

牛津OXFORD System 100 等离子刻蚀与沉积设备,该设备是一个灵活和功能强大的等离子体刻蚀和淀积工艺设备,具有工艺灵活性，适用于化合物半导体，光电子学，光子学，微机电系统和微流体技术.

价格：￥ 4型号：System 100产地：欧洲
PlasmaPro 80 ICPCVD牛津ICP等离子沉积机

PlasmaPro 80 ICPCVD 牛津ICP等离子沉积机，是一种结构紧凑且使用方便的小型直开式系统，可以提供多种刻蚀和沉积的解决方案。它易于放置，便于使用，且能够确保工艺性能。直开式设计可实现快速晶圆装卸，是科学研究、原型设计和小批量生产的理想选择。它通过优化的电冷却和出色的衬底温度控制来实现高性能工艺。

价格：￥电议型号：PlasmaPro 80 ICPCVD产地：欧洲
PlasmaPro 80 RIE牛津等离子体刻蚀机

PlasmaPro 80 RIE 牛津等离子体刻蚀机,是一种结构紧凑、小尺寸且使用方便的直开式系统，可以提供多种刻蚀和沉积的解决方案。它易于放置，便于使用，且能确保工艺性能。直开式设计可实现快速晶圆装卸，是研究和小批量生产的理想选择。它通过优化的电冷却和出色的衬底温度控制来实现高质量的工艺。

价格：￥电议型号：PlasmaPro 80 RIE产地：欧洲
LXY-SUV110X6蓝星宇UV清洗改质机

UV臭氧清洗改质机LXY-PL110X16$r$n$r$n清除玻璃/塑料/金属/陶瓷/硅/电子器件等表面有机污染, 适合生产过程流水线批量作业。

价格：￥电议型号：LXY-SUV110X6产地：中国大陆
LXY-PL110X16蓝星宇UVO清洗改质机

UV臭氧清洗改质机LXY-PL110X16$r$n$r$n清除玻璃/塑料/金属/陶瓷/硅/电子器件等表面有机污染, 适合生产过程流水线批量作业。

价格：￥电议型号：LXY-PL110X16产地：中国大陆
ExciStar XS200，500美Coherent 准分子激光器

美Coherent ExciStarXS准分子激光器$r$n$r$n超紧凑、轻型、高度可靠的紫外线光源

价格：￥电议型号：ExciStar XS200，500产地：美洲
Prexision-800.瑞典 Mycronic 光刻机

主要优势$r$n提高分辨率 25%$r$n$r$n更佳的贴片性能 70%$r$n$r$n更快的写入速度20%

价格：￥电议型号：Prexision-800.产地：欧洲
T10x10，T16x16美国UVOCS 紫个臭氧清洗机

坚固耐用，全部不锈钢结构。UVO清洗设备的核心是低压石英汞灯，产生254和185nm范围的紫外线。臭氧和等离子氧气产生，有机污染物分子在吸收254nm波长紫外线后被激发或分解；激发的有机污染物可以和等离子氧原子反应形成气体，比如CO₂,等。可以去除皮肤油脂，有机硅油和油脂，助焊剂，残留的光刻胶，胶水溶剂，碳等。

价格：￥电议型号：T10x10，T16x16产地：美洲

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